二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9275464 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS
ID: 9275464
Etchers.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS是一种双口袋化学气相沉积(CVD)反应器,旨在将高质量的薄膜沉积在基板上。它利用先进的过程控制来确保一致和可重复的结果。该设备采用双口袋设计,使用户能够按顺序同时和独立地处理两个晶片,提供比传统单口袋系统高得多的吞吐量。晶片的单独处理提高了两个晶片的处理一致性,并提高了同一批晶片的整体均匀性。AMAT Centura DPS采用两个独立的75毫米热墙CVD室和一个共同的源材料装卸室。每个CVD腔室都装有两个2kw红外灯、一个高温计和一个有四条气线的整体气体引入歧管。由温度程序员提供的每个灯的独立温度控制,在每个腔室中产生温度梯度,允许在整个基板上沉积具有精确厚度和均匀性的薄膜。APPLIED MATERIALS Centura DPS还设有涡轮二氧化硅发电机,提供单一来源的超纯无水氢气和氮气,创造高质量的沉积环境。Centura DPS旨在提供可靠、可重复的沉积结果,增强了沉积由铝到钨等多种材料组成的薄膜的能力。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS通过结合多层膜层和处理,可以实现各种基材的新材料、涂层和物理性能。该系统能够生产到原子水平的均匀氧化物和氮化物薄膜,从而能够精确控制底物的化学和物理结构。除了提供沉积控制外,AMAT Centura DPS还设计用于提高用户安全性。该装置的内置边缘探测功能加上其锁紧歧管密封装置,消除了接触有毒气体的任何风险。此外,双口袋设计显着降低了反应堆的整体温度,导致环境更凉爽,进一步降低了发生事故或暴露的风险。APPLIED MATERIALS Centura DPS是一种革命性的CVD机器,设计用于在基板上生产高质量的薄膜,具有精确的控制和更高的安全性。Centura DPS结合其双口袋功能,为各种高级材料应用程序提供了高吞吐量解决方桉。
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