二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9301836 待售
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ID: 9301836
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
Etcher, 12"
(3) FI Port
FI Robot: TBC
PC: TBC
Thickness metrology: NANOMETRICS 9010 Integrated metrology (1000-00829)
Mainframe: Centura AP
Xfer robot: VHP Ceramic blade
Chamber A: DPS Tsubasa
Chamber B: DPS Advance edge
EDWARDS Turbo pump
Controller: SCV-1500
Gate valve: VAT
RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513 and Apex 3013
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
31 / CELERITY / SiCl4 / 100
32 / CELERITY / Cl2 / 100
33 / CELERITY / CH2F2 / 100
34 / CELERITY / BCl3 / 400
35 / CELERITY / NF3 / 100
36 / CELERITY / H2 / 200
37 / CELERITY / HBr / 500
38 / CELERITY / C4F8 / 100
39 / HORIBA / O2 / 200
40 / CELERITY / Ar / 200
41 / CELERITY / N2 / 50
42 / CELERITY / CF4 / 200
43 / CELERITY / CHF3 / 200
44 / CELERITY / H2 / 200
Chamber D: Axiom
MFC No / Make / Gases / SCCM
37 / CELERITY / O2 / 10000
38 / CELERITY / 4%H2/N2 / 500
40 / CELERITY / N2 / 10000
Chiller:
Chamber A and B: SMC INR-498-043A
Chamber A: SMC INR-498-016
Chamber B: SMC INR-498-003D
Xfer and L/L pump: TOYOTA T100L
Missing parts:
Hard Disk Drive (HDD)
(3) Dry pumps
2005 vintage.
AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS是一种多功能反应器，设计用于半导体制造过程中材料的蚀刻和沉积。AMAT Centura DPS作为一个综合的独立单元运行,能够为多个流程应用程序创建经济高效且可靠的处理解决方桉。DPS的双室设计使其非常适合在多个层面上使用，使其能够同时浸入基板，并执行复杂的蚀刻操作和材料沉积任务。双室优化，最多支撑7条工艺气线；第一个腔室内衬石英，运行温度在75至325摄氏度之间，第二个腔室支撑多达16个石英托盘，运行温度为-10至600摄氏度。APPLIED MATERIALS Centura DPS的设计采用了一系列全面的控制,可实现各种工艺职责的最佳性能。例如，腔室设有真空、匹配、吹扫控制功能；温度控制器；以及多气体计功能。此外，系统的空腔设计使得单晶片或批量装载机易于集成，分散的机械设计保证了快速、方便的维护。APPLIED MATERIALS/Centura DPS支持各种制造工艺，如蚀刻、氧化物生长、氧硝化物沉积、激光升空和烷基硅酸盐沉积。当涉及到氧化物灰化、氧化物沉积、氮化物沉积、剥离或蚀刻或脱落等任务时，可靠性不会受到损害。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS的构建考虑到了卓越的安全性和环境关注；它是一种经UL批准的装有紧急关闭阀和非易燃工艺气体的装置。AMAT/APPLIED MATERIALS/AMAT Centura DPS是一系列制造应用的理想选择。它提供了完整的过程控制和灵活性,结合了简单的维护和强大的可靠性。这台机器的设计是为了使半导体加工过程的运行鲁棒，可靠性和长期性能，优化效率和质量。
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