二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9301844 待售
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ID: 9301844
晶圆大小: 12"
优质的: 2007
Etcher, 12"
PC: IBM 0090-04959 and 0090-04958 Server type
Mainframe: Centura AP
Chamber A: DPS Cerena (High temperature heater)
EDWARDS Turbo pump
Controller: SCV-1500
Gate valve: VAT
RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513
KASHIYAMA MU-603X Dry pump
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
1 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 20
2 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
3 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 400
4 / UNIT INSTRUMENTS / He / 400
5 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
6 / UNIT INSTRUMENTS / Ar / 400
7 / UNIT INSTRUMENTS / BCl3 / 400
8 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 500
9 / UNIT INSTRUMENTS / NF3 / 200
10 / UNIT INSTRUMENTS / Cl2 / 200
11 / UNIT INSTRUMENTS / H2 / 400
12 / UNIT INSTRUMENTS / SiCl4 / 70
13 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 70
14 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
15 / UNIT INSTRUMENTS / CO / 100
16 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 100
17 / UNIT INSTRUMENTS / SF6 / 100
19 / UNIT INSTRUMENTS / CH3F / 100
20 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 300
22 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
23 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
24 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 400
FPC / MKS / N2 / 1000
Chamber C: DPS G5
EDWARDS Turbo pump
Controller: SCV-1500
Gate valve: VAT
RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513
Dry pump missing
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
1 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 20
2 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
3 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 300
4 / UNIT INSTRUMENTS / He / 400
5 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
6 / UNIT INSTRUMENTS / Ar / 400
7 / UNIT INSTRUMENTS / BCl3 / 400
8 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 500
9 / UNIT INSTRUMENTS / NF3 / 300
10 / UNIT INSTRUMENTS / Cl2 / 200
11 / UNIT INSTRUMENTS / H2 / 200
12 / UNIT INSTRUMENTS / SiCl4 / 70
13 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 30
14 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
15 / UNIT INSTRUMENTS / CO / 100
16 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 100
17 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 200
18 / UNIT INSTRUMENTS / CH3F / 100
19 / UNIT INSTRUMENTS / SF6 / 100
20 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 300
21 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 30
22 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
23 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
24 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
FPC / MKS / N2 / 1000
Chamber D: ASP (RF type)
RF Generator: ADVANCED ENERGY
KASHIYAMA MU-603X Dry pump
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
37 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 1000
38 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 1000
40 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 10000
Missing parts:
Hard Disk Drive (HDD)
Dry pump
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS（动态工艺设备）反应堆是一种用于制造半导体、内存芯片和微处理器等微电子元件的工艺系统。反应堆利用一系列工业级材料，创造了一个独立的环境，在其中可靠地进行微电子特征层的蚀刻、沉积和清洗。DPS腔室具有广泛的功能,专为特定项目的轻松配置而设计,提供卓越的可重复性、均匀性和容错能力。在AMAT Centura DPS装置中，使用高效、低发电量的加热器来产生高达250°C的腔室温度。温度对剥离抗蚀剂和光致抗蚀剂的清洁很重要。加热器包括一个强制对流风扇以确保室内温度均匀，以及一个可伸缩的淋浴喷嘴以均匀散热。此外，加热器还包括了防止热失控的水冷能力。使用专有的工艺室气溶胶输送机控制室的温度，防止污染。气溶胶输送工具的工作原理是将进入的空气分成固体和蒸气，然后控制腔室的温度和湿度。它还利用双过滤元件，以确保进入腔室的污染物是该过程所必需的污染物。鲁棒控制器资产设计方便，具有用于调整工艺参数和腔室条件的单拨盘旋钮。它能够控制室内的压力、温度和湿度等参数，以及其他一些特定于工艺的参数。控制器模型的灵活性也使得在制造过程中为不同的应用领域和过程监控定制配方变得容易。应用材料Centura DPS是微电子制造工艺的重要组成部分.它确保精确地进行蚀刻和沉积过程，同时还提供了一个环境，在这种环境中，可以安全地、高效地完成抗剥离和清洁。Centura DPS拥有广泛的功能、可配置的特性和集成的控制设备,是微电子制造的绝佳选择。
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