二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxL #117144 待售
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ID: 117144
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
PECVD SiO2 system, 8"
Specifications:
(3) Chambers: SiO2
Cool down chamber
HP robot
Notched wafers
Gases:
Ch A, B, C: SiH4, NF3, N2O, CF4, N2, Ar
Front and rear monitors
SMC chiller
(3) RF generators: ENI OEM 12B
(2) EBARA A30W dry pumps
(3) EBARA A70W dry pumps
Process kits
English software
All cables and hoses
Packing list:
Mainframe
System controller
RF generator rack
Rear monitor
Rear monitor base
Front monitor set
Chamber A ceramic shield
Chamber A susceptor
Chamber A ceramic edge ring
Chamber A ceramic hoop
(4) Chamber A ceramic lift pins
Chamber B ceramic shield
Chamber B susceptor
Chamber B ceramic edge ring
Chamber B ceramic hoop
(4) Chamber B ceramic lift pins
Chamber C ceramic shield
Chamber C susceptor
Chamber C ceramic edge ring
Chamber C ceramic hoop
(4) Chamber C ceramic lift pins
Cables 1-12
Water hose
Chamber A pump
Chamber B pump
Chamber C pump
T/M pump
L/L pump
SMC chiller
Cables 13-20
Power: 208VAC, 3 phase, 50 / 60 Hz
De-installed Q4 2009
Currently warehoused / plastic-wrapped
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxL是一个革命性的半导体反应堆，为微电子器件制造提供了一个用途广泛、成本效益高的解决方桉。它由AMAT经过验证的具有Centura XL工程设备的PECVD平台提供动力。凭借其先进的功能,AMAT Centura DxL为超高长宽比处理设定了新的标准。APPLIED MATERIALS Centura DxL旨在提供最高的沉积速率和均匀性,最大限度地提高生产吞吐量和产量。其高性能的PECVD平台运行最高530°C，允许沉积广泛的氧化物、氮化物和金属薄膜。该反应堆将APPLIED MATERIALS专利的IntelliPath控制系统与车载温度和压力控制相结合，使薄膜沉积具有均匀性和可重复性。Centura DxL还提供多种高长宽比处理选项,包括平面化和各向异性阵列。该反应器同时对工艺室和上层基板温度进行独立控制，从而能够精确控制薄膜沉积和平面化。先进的晶圆船装卸装置能够快速、高效地装卸晶圆。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxL反应堆具有先进的特性,使其成为微电子装置制造中用途最广泛的反应堆之一。具有沉积各种氧化物、氮化物和金属的能力，具有极高的精确度和可重复性。高长宽比处理能力使其成为MEMS和纳米技术等超高长宽比应用的理想选择。该机还易于使用和维护，拥有其IntelliPath、车载温度和压力控制以及先进的晶圆船装卸工具。
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