二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxL #9294554 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxL Reactor是一种半导体器件，设计用于加工电子元件制造中使用的材料。AMAT Centura DxL依靠化学气相沉积（CVD）技术以精确的速率、厚度和保形性将薄膜沉积到陶瓷基板上。该反应堆结合了工艺自动化、可靠的性能和提高的生产率，提供了优异的产量和改进的工艺控制。APPLIED MATERIALS Centura DxL是以​​氙气为载体，氮气、氢气、氧气为反应物气体，以沉积各种材料的薄膜。反应堆以热壁配置运行，由四条加热气体管线和两条加热淋浴管线输送反应物气体。系统配备50.8厘米（20英寸）和101.6厘米（40英寸）石英管，使其能够加工各种尺寸的基板。Centura DxL沉积的薄膜厚度均匀，厚度大于0.3 µm的薄膜公差± 0.1 µm。反应堆的沉积速率从0.0001 µm/min到20 µm/min不等。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxL还集成了高级诊断和控制组件,以确保过程的一致性和可靠性。其先进的过程控制系统能够自动优化过程以最大限度地提高产量。先进的生命周期监控系统使用户能够随时间跟踪流程和设备参数,从而使用户能够解决潜在问题并在问题发生之前采取预防措施。AMAT Centura DxL反应器非常适合半导体工业的应用，包括晶体管闸门薄膜的沉积、介电沉积和金属化。由于其可靠的性能、过程自动化和提高的生产率,APPLIED MATERIALS Centura DxL Reactor是任何在沉积过程中需要精确控制的应用的理想选择。