二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9096727 待售

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ID: 9096727
晶圆大小: 8"
SACVD / PECVD System, 8" Process:PE Silane (2) Chambers Top mount RPS Narrowbody loadlocks HP robot OTF Seriplex gas panel, 2 chambers Position A : DxZ PE Silane Position C: DxZ SACVD, Top mount RPS Position E: MSCD Position F: Orienter AX8200A ozone generator rack Neslab HX-300 chiller AMAT 0 heat exchanger.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ反应堆是一种最先进的沉积设备,将物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和蚀刻设备全部结合在一台机器中。该反应堆采用了完全可配置的双区腔室设计,为先进设备的生产提供了各种工艺变化。DxZ能够处理任何类型的样品或基材,如硅片和石英滑轨,直径最大为4英寸,最大样品尺寸为8 x 8英寸。AMAT Centura DxZ反应堆系统的设计旨在通过先进的软件实现高精度的过程控制,从而实现各种过程参数的可重复性和调整。该设备专门设计用于处理各种沉积、蚀刻和CVD过程,如原子层沉积(ALD)、溅射、退火、蚀刻和等离子体辅助蚀刻。例如,可以调整反应室的温度状态和真空水平,以优化各自的应用。此外,APPLIED MATERIALS Centura DxZ反应堆通过其集成电热节流(ETT)技术和全自动基板处理单元提供进一步的控制。这使得它成为光刻和薄膜生长的理想选择,也是工业生产和研究先进半导体器件的理想基础。此外,利用真空处理和集成实时监测的最新技术,Centura DxZ反应堆可以方便地在各种沉积和蚀刻过程之间切换。这为应用各种复杂的工艺,如自动流动沉积或超高真空(UHV)工艺提供了极大的通用性。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ反应堆是一种用于先进工业和学术研究的顶级机器。它汇集了高工艺控制和先进的兼容性与各种样本量和基材,使得极大的创造力和创新对设备制造。对于开发人员、研究人员和工程师来说,这是一台功能强大、用途广泛的机器,可以最大限度地提高他们的研究成果。
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