二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9174380 待售
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ID: 9174380
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
CVD Nitride system, 8"
Process: DCVD
Wafer specification:
Wafer shape: Notch
SMIF Interface: None
System information:
Chamber A
Chamber B
Chamber D
Chamber E (MS COOL)
Chamber type:
Chamber A: DxZ
Chamber B: DxZ
Chamber C: DxZ
Chamber A:
Manometer: 100/2
Heater: AL
Clean method: AE 2000-2V
Pressure method: Direct drive throttle valve
Chamber B:
Manometer: 100/2
Heater: AL
Clean method: AE 2000-2V
Pressure method: Direct drive throttle valve
Chamber D:
Manometer: 100/2
Heater: AL
Clean method: AE 2000-2V
Pressure method: Direct drive throttle valve
System monitor:
Monitor 1: Through the wall
Monitor 2: Stand alone
Mainframe information:
Loadlock: Narrow body
Robot type: HP
OTF: Yes
Gas delivery option:
MFC Type: Unit MFCs
Filters: Millipore
Regulators: Veriflo
Single line drop (SLD): Yes
System cabinet exhaust: Top
Gas pallet configuration:
Chamber A Size Model
SiH4 500sccm Stec MFCs
NH3 200sccm Unit MFCs
NF3 1 Slm Unit MFCs
N2O 500sccm Unit MFCs
N2 5 Slm Unit MFCs
Chamber B Size Model
SiH4 500sccm Stec MFCs
NH3 200sccm Unit MFCs
NF3 2 slm Unit MFCs
N2O 500sccm Unit MFCs
N2 5 Slm Unit MFCs
Chamber D Size Model
SiH4 500sccm Stec MFCs
NH3 200sccm Unit MFCs
NF3 1 Slm Unit MFCs
N2O 500sccm Unit MFCs
N2 5 Slm Unit MFCs
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ是一种高度专业化的高温反应堆，专为复合半导体器件的先进制造而设计。这种全自动的CVD设备同时在单个腔室中处理晶片，能够处理多达200个晶片的生产运行量。反应堆提供了一系列炉温，以便在规划和管理均匀沉积过程方面具有更大的灵活性。从基板的边缘到边缘以及从上到下的表面,其非凡的温度均匀性可提高设备制造的一致性。该系统配备了一系列先进的特性和功能，包括石英晶体微平衡（QCM）监视器、石英反射监视器、O环密封设计、气体处理特性和晶圆载体单元。QCM监测器提供实时沉积和生长速率信息，而石英反射率监测器有助于确保沉积过程中薄膜厚度的均匀性。O形圈密封有助于将必要的气体引入反应室的高效和受控的过程，而气体处理特性则使反应堆保持理想的气体浓度比。最后，集成晶片载波机确保晶片在沉积过程中保持不动。强大的AMAT Centura DxZ等离子体工具为各种应用提供五个PVT替代模块，包括热氧化、干蚀刻和等离子体增强沉积。其先进的高级手套箱气体溷合能力能够精确控制输送的气体，包括其流量和浓度水平。凭借其高压运行、无与伦比的温度均匀性以及处理范围广泛的晶圆尺寸的能力，该资产是生产各种先进半导体器件的理想之选。APPLIED MATERIALS Centura DxZ非常适合复合半导体器件制造的苛刻需求,具有最先进的硬件工程、可靠的设计和一系列高级工艺选项。这个世界级的反应堆能够可靠地、始终如一地生产优质的复合半导体器件，同时为制造商和开发商节省时间和资源。
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