二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9177323 待售
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ID: 9177323
晶圆大小: 8"
Chamber, 8"
Wafer shape: SNNF (Semi Notch No Flat)
System configuration:
Chamber B:
Heater: AL
Clean method: RF
Frequency: Dual HF + LF
Manometer: Single 100 torr
Gas delivery:
MFC Type: STEC 4400MC
Valves: FUJIKIN 5 Ra Max
Filters: Millipore
Transducers: MKS with display
Regulators: Veriflo
Single line drop (SLD): No
Liquid delivery type: EPLIS
Injection valve: Yes
LFM TEOS: Yes
Chamber B Model Size
NF3 STEC 4400 300 sccm
C2F6 STEC 4400 2 SLM
O2 SETC 4400 3 SLM
N2 STEC 4400 1 SLM
HE STEC 4400 3 SLM
LFM LF-410A 1.5 g/m
(2) Generators:
HF Generator
LF Generator
Umbilicals:
Signal cable length (S/C ~ MF): 25Ft
RF Gen coax cable length: 50Ft
Pump cable: 50Ft.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ是一种设计用于薄膜沉积的多功能反应器。它利用物理气相沉积来沉积高质量的薄膜，使其成为半导体/光电制造以及其他应用的理想选择。反应堆设有一个大的加工室，以容纳各种形状和大小的底物。它还使用多区加热设备，允许在沉积过程中精确控制热能。该反应器的设计是为了提高均匀性，允许薄膜被应用与证明均匀性跨越晶圆。高性能设计还有助于最大限度地减少颗粒的摄入，采用优化的气体流动系统，以确保颗粒在从过程中出现时被气流和其他气体卷走。Centura还具有许多独特的功能,可帮助在薄膜沉积过程中最小化敏感性并确保准确性。其高精度气体阀设计用于精确调节气体流动，而其高精度工艺监测系统则提供工艺响应和性能数据。此外,该设备还配备了高级诊断和高级流程控制器功能,使操作员能够根据需要修改流程以保持目标状态。AMAT Centura DxZ的设计也允许对广泛的化学反应进行监测，从而使沉积过程能够紧密定向和优化以获得最佳结果。它还具有许多安全功能，如惰性气体储物柜和防止过度处理的倒计时计时器。总体而言，APPLIED MATERIALS Centura DxZ是一种先进的薄膜沉积机，提供可靠且可重复的薄膜沉积。它设计多种多样,可提供精确、均匀的涂层,并特别注重可靠性、安全性和可重复性。通过结合先进的特性和工艺,Centura可确保薄膜的应用精确度和高产率。
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