二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9193775 待售

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ID: 9193775
DCVD System Voltage: 208 VAC Phase: 30’’ (4) Wires Full-load current: 240A Frequency: 60Hz Maximum system rating: 87KVA Ampere rating of largest load: 140A Interrupting current: 10,000 Chamber A: TEOS, He, O2, N2, NF3, Ar Chamber B: a-Si, SiO, SiON, SIN (SiH4, N2O, H2, He, N2, NH3, NF3, Ar) Chamber C: a-Si, SiO, SiN (SiH4, N2O, H2, He, N2, NH3, PH3/H2, NF3, Ar) Chamber D: SiO, SiON (SiH4, N2O, H2, He, N2, NH3, NF3, Ar).
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ Reactor设计用于高级材料的高性能过程化学和物理气相沉积(PVD)。DxZ是一种全自动的高精度工艺工具,专为快速可靠地生产先进的薄膜结构而设计。它具有高度的正常运行时间,符合最苛刻的环境、操作和工艺条件。DxZ反应堆配备了先进的MFC质量流控制器,能够精确的过程控制,并具有独特的"逐区"控制设备。这一特性有助于控制反应物气体浓度在反应堆体积中的扩散,降低过程漂移的风险。此外,DxZ有一个大容量的多区气体系统,有助于提高过程的重复性和降低漂移的风险。工艺包覆等离子体源(PCPS)以高效率和过程均匀性向加工室提供均匀的ICP(感应耦合等离子体)输入。PCPS使用智能电源运行,以确保脉冲峰值稳定性和平滑的等离子体轮廓,从而优化过程稳定性和可重复性。DxZ反应堆专为在洁净室环境中强健运行而设计,并配备了最新的符合洁净室要求的自动化和软件。全自动负载锁装置是为最小的过程中断而设计的,并配有灯照明的内部,以减少污染。DxZ具有高级加载历史记录功能,可以跟踪和记录准确的过程信息,从而实现可靠的可追踪性和过程历史记录。一个专门的环境控制机为可靠、可重复和均匀的层沉积提供了一个符合清洁室要求的气氛。AMAT Centura DxZ具有广泛的先进工艺能力,包括晶圆键、单向溅射沉积、合金沉积、ALD(原子层沉积)、IPVD(内等离子体气相沉积)。该工具能够处理各种特殊材料,非常适合制造复杂的高性能设备。此外,DxZ具有灵活的操作模式,允许用户自定义其流程参数以获得最佳性能结果。APPLIED MATERIALS Centura DxZ Reactor设计用于对多种先进材料进行高性能、高效的处理。它配备了全面的安全和过程控制工具,以确保可靠的过程性能。DxZ是处理高度专业化材料的强大工具,是高级制造应用程序的理想选择。
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