二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMax #9239957 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS Centura eMax是一个先进的模块化反应器，为在极紫外线（EUV）频率下便利先进可靠的半导体处理而开发。与其他生产反应堆不同的是，AMAT Centura eMax具有两个完全独立的腔室，具有独立的源，以两倍的功率提供低成本的工艺优化方法。双6 kW光源非常适合需要两倍吞吐量同时保持高精度的制造工艺,如光刻剥离、沉积和蚀刻。APPLIED MATERIALS Centura eMax具有专有的防反射涂层,可提供精确的阵列和特征控制,从而可以更好地控制设计过程。该反应堆还配备了一个可调压力系统，可提供精确处理，以便对易碎材料进行具有成本效益的蚀刻。Centura eMax具有减少纳米短裤的能力，在先进的EUV光刻技术中被用于鳍高优化。该系统的小巧尺寸提供了有效的空间利用,允许在紧凑的制造位置进行安装。作为使用EUV的生产工艺的最佳工具，它拥有快速的扫描速率和高能光束，能够在难以蚀刻的层上进行精密蚀刻。最大扫描速率为每分钟500平方厘米,通过缩短周期时间,可以快速调整过程并提高吞吐量。一种先进的过程控制器与人机界面协同工作，可快速调整参数，方便地设置和控制反应堆。用户友好的界面可以提高控制过程参数（如蚀刻速率、沉积速率和薄膜轮廓等）的准确性。该系统对批量EUV处理特别有效，提供了可重复性和可靠、高产的生产运行。AMAT/APPLICED MATERIALS Centura eMax结合了EUV性能、先进的过程控制功能和较小的占地面积,是一个开创性的生产反应堆解决方桉,可用于要求苛刻的半导体过程。创新的设计为大批量制造和性能优化提供了速度、灵活性和精度。