二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMax #9255699 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura eMax是一种先进的沉积设备，用于包括铜在内的薄膜的物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。AMAT Centura eMax反应堆设计用于大批量制造集成电路（IC）、薄膜光学器件、磁感应器、MEMS元件和其他先进的薄膜结构。eMax反应堆具有坚固、可靠的设计、高生产率和改进的晶片对晶片处理以及低维护成本。APPLIED MATERIALS Centura eMax是一种自动化的、能够实现多目标溅射的系统,专为金属薄膜的沉积而设计。它是当今市场上最先进、效率最高的薄膜加工工具。eMax具有高溅射率（高达70 ㎡/min）、高均匀性、低运行成本，是生产高质量微电子的理想之选。该单元可配置多种溅射目标，可溅射铜、铝、钛、钨等材料。Centura eMax的过程控制机器基于闭环自动设计。该工具利用过程中的控制资产来监控薄膜沉积过程,并确保每个晶片具有适当的层厚度、均匀性和结构完整性。沉积过程可以配置为利用运行到运行均匀性方面的改进。模型还具有执行诊断测试和监视工具性能的功能。该设备可提供优于传统单目标PVD腔室的沉积质量和吞吐量。EMax可以加工多种底物，包括薄至0.033mm的硅或砷化的基物。该系统设有带载荷锁的双真空室、晶圆处理机器人、气体输送单元和各种目标材料。该机器还可以适应新的工艺选项，如铜沉积工艺。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura eMax是一种用途广泛的薄膜沉积工具,可容纳众多应用。其高吞吐量和自动化操作使其成为复杂薄膜器件批量生产的理想工具。它的模块化设计允许针对特定流程进行定制,并允许针对不同的流程条件轻松编程自动序列。这种多功能性，加上其改进的晶片对晶片的处理，使得eMax反应堆非常适合大批量生产集成电路和其他先进的薄膜设备。