二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMxP+ #9248728 待售

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ID: 9248728
晶圆大小: 8"
优质的: 1998
Oxide etcher, 8" NBLL, 8" (3) Chambers Load locks: Narrow body Frame: Centura 5200 (3) Process chambers: Chamber A: Hybrid, eMxP+ Chamber B: Hybrid, eMxP+ Chamber C: Hybrid, eMxP+ Chamber F: Orientor Robots: VHP+ Chuck type: ESC Signal tower (front): Green, yellow, red System control and AC rack Smoke detector Remote UPS interface Generator rack Water leak detector (3) BOC EDWARDS STP-301CB1 Pumps Hard Disk Drive (HDD) Line frequency and voltage: 50/60 Hz, 208 V, 3-Phase 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura eMxP+反应堆是半导体制造过程中使用的关键工具。它是一种等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备,为蚀刻和氧硝化物应用提供高沉积速率和优异的均匀性。EMxP+具有400毫米直径的加工室,允许比常规反应堆更大的底物和更高的通量。其独特的腔室/杆设计有助于对沉积环境和过程进行精确控制。EMxP+还使用了先进的四级RF功率组合器,允许在任意组合中使用最多三种工艺气体。这样可以更好地控制和处理沉积。eMxP+还利用最新的射频发电机技术在所有应用中实现更高的功率传递和最高温度均匀性。eMxP+的设计具有均匀性和可重复性。它具有独立的静态晶片加热系统,以确保均匀的预处理温度,最大限度地减少来自基板支架的颗粒污染的可能性。基板冷却装置有助于最大限度地减少工艺变化并保持一致的结果。eMxP+还配备了温度和沉积剖面反馈的控制机器,用于最大均匀度的精确温度和沉积控制。eMxP+提供了最高级别的流程灵活性。凭借独特的双光管设计,eMxP+能够进行尽可能最快的坡道下降和坡道上升,使用户能够满足工艺要求。由于腔室的设计,其高沉积通量和均匀性非常适合高生产率的应用。AMAT Centura eMxP+除了功能外,还内置了安全环保功能。它在工具的内部和外部部件上的散热器和屏蔽有助于减少进入房间的热量传递,并提供更安全的工作环境。其符合简易爆炸装置的冷却资产最大程度地减少了浪费气体的消耗,同时也降低了样品污染的可能性。APPLIED MATERIALS Centura eMxP+是一个功能强大而高效的反应堆,专为高生产力的半导体制造应用而设计。eMxP+在任意组合中运行多达三种工艺气体,并具有400毫米直径的加工室,可提供最高水平的沉积均匀性和可重复性。利用先进的加热和冷却系统,提供最高温度均匀性和工艺灵活性。它还内置了安全和环境保护,以建立一个更安全的工作环境。
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