二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #293621413 待售
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已售出
ID: 293621413
晶圆大小: 6"-8"
优质的: 2004
System, 6"-8"
(3) ATM Epi Chambers
Flow point: Nano valve
Gas panel
M-Monitor: CRT
SIEMENS PLC with Digital flow control with interlock and passphrase
CB1 Amps: 300 A
HDD upgraded to RAID
V452 SBC Board
Serial isolator
(2) Leak detect / System reset
OTF / Centre find
Chamber A, B, C: Interlock
M/F Interlock
Loadlock Interlock
Chamber A, B, C
DI / O1
DI / O2
Chamber D: DI / O2
Chamber E: DI / O0
SBC
Video
I/O Expansion
SEI
Chamber A, B, C, D: AIO
Mainframe AI01
CH E / MF AI02
Mainframe: DI01, DI02, DI03, DI04, DI05, DI06
Mainframe Stepper 1
Robot and indexer stepper: VX2
2004 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi是专门设计用于生产半导体器件的反应堆。该反应器能够进行气相沉积和外延处理,这是沉积薄膜和制造集成电路等多层器件的主要方法。以其高通量、高温、高均匀性,AMAT Centura Epi反应堆是发展先进半导体技术最强大的工具之一。应用材料CenturaEpi反应堆是利用先进的工艺技术和集成的硬件和软件环境开发的一种坚固可靠的设备。它配备了高精度的机芯、先进的散热和电气控制,以及功能强大但易于使用的基于软件的界面。Centura Epi反应堆的主要部件包括一个发射电子的基板支架、用于产品控制和清洁生产的挡板和气体注入系统、气体筛分场效应装置和控制单元、直流蒸发源以及电磁和表面波发生器。基板支架装有一系列电子设备,使其能够保持均匀的温度分布。这有助于最小化热波动并提供薄膜和外延层的均匀生长。挡板和气体喷射机支持产品控制功能,允许用户在预定参数内精确控制和维护环境。气筛场效应装置能够高效控制产品,通过防止外来或有害材料进入来减少气体污染。直流电蒸发源可提供任何来源的高度均匀、高速率的材料蒸发,从而确保更高质量的生长和沉积。最后,电磁和表面波发生器提供了与最广泛的循环和静态元件的兼容性,进一步保护输出免受伤害或损坏。总之,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi工具是一种先进、高效、可靠的反应堆,为集成电路等半导体器件的生产提供了高通量、均匀的生长环境。它采用集成的硬件和软件环境进行设计,并包含一系列高级功能,使用户能够准确控制环境并产生高质量的结果。
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