二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9137479 待售

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图为 已使用的 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi 待售
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已售出
反应器
製造商
AMAT / APPLIED MATERIALS
模型
Centura Epi
ID: 9137479
晶圆大小: 8"
优质的: 1995
CVD Reactors, 8" Chamber type: Position A : HTF Nitride Position B : HTF Nitride Position F : (CA) Single slot cooldown Electrical requirements Line voltage : 480V With transformer Line frequency : 60 HZ Line amperage : 600A System safety:  EMO Switch type : Momentary EMO EMO Guard ring HTF NITRIDE EPI RP Pressure chamber Thickness control options : BMV Third manometer : 200 TORR Leak check port RGA Port and valve HTF NITRIDE EPI : RP Pressure Chamber Selected Option Thickness Control Options BMV  Third Manometer 200 TORR Gas Line Isolation Leak check port RGA Port and Valve Gas Delivery Options:   Epi Gas Delivery Options: Gas Panel Type Surface Mount Gas Panel Gas Panel Exhaust CHAMBER B SIDE MFC : AREA,UNIT,STEC,ETC Filter Milipore Pump Purge CH A Gas Options   CH A ATM Pressure      CH A H2      CH A N2      CH A SIH4      CH A SIH4      CH A H2      CH A NF3 CH B Gas Options:  CH B ATM Pressure      CH A H2      CH A N2      CH A SIH4      CH A SIH4      CH A H2      CH A NF3 Mainframe  Loadlock      Loadlock Type : Wide body      Cassette Platform Type : Universal  Common Chamber Options :      Variable Speed Blower      SWmonitor Quartz Pyrometer Kit 2      Lamps Type USHIO BNA6      Susceptors STANDARD NCP      Brands XYCARB      Lift Pin Type HOLLOW SILICON CARBIDE      Susceptor Support Shaft NCP SUSCEPTOR SUPPORT SHAFT      Tips SILICON CARBIDE REMOVABLE TIPS      Exhaust Inserts Quartz  Transfer Chamber Wafer Sensing : OTF Transfer chamber Lid Hoist : Robot :HP ENP Transfer Chamber Purge 15 SLM  Diagnostics and Control :  SecsTrac Remotes :  System controller :  Controller Plexiglass Cover  Flash Memory Drive : SCSI Vacuum pumps :  Loadlock chamber pump : Edwards QDP40  Process chamber pump : Edwards QDP80  System Monitors:  Monitor Type : CRT (1) Monitor Wall (1) Table mount Cable Lengths (Effective) :      Controller to Mainframe : 23 ft Controller to Pump : 48 ft Controller To TTW Monitor : 50 ft Controller to table Mount Monitor : 24 ft 1995 vintage.
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi是一种用于外延层沉积的前沿多区域设备。这座反应堆采用了高效的设计，得益于其高度优化的喷射器、甚至加热区以及低温性能系数。AMAT Centura Epi采用先进的多区域喷射器，通过扩散控制工艺帮助确保厚层的均匀性。这款喷射器吞吐量高，性能系数低，操作效率高。反应堆有加热带，具有先进的热处理，有助于提供均匀均匀的基板加热。这允许热层的均匀性，这有助于在沉积过程中保持外延层的最高产率。APPLIED MATERIALS Centura Epi采用真空泵和气体鼓风机系统,设计得非常可靠。这些系统有助于控制真空压力，并提供稳定的气体流动。这确保了沉积过程的稳定和一致的环境。该单元还包括几个监控系统，如流量、压力和温度控制。这些系统有助于保持工艺参数的一致性，确保外延层的高质量和可靠沉积。Centura Epi包括一个用于自动数据收集的数字接口,可帮助捕获和分析沉积过程中的数据。这些数据可以用来调整机器的参数，帮助优化沉积过程的结果。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi是一种高性能的工具,旨在实现均匀外延层的沉积。这座反应堆具有高效的设计，得益于它的多区喷射器，甚至加热区，以及低温系数的性能。此外，它还具有一系列监测和控制系统，有助于确保沉积过程的统一性、可靠性和质量。
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