二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9153770 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi是一种先进的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器，用于半导体器件制造。该工具旨在制造高产量的高性能设备,使客户具备实施高级光刻策略的多功能性和能力。AMAT Centura Epi炉具有双基板工艺室，允许在不同温度下同时处理基板，以及两个独立的epi室，每个室都有自己的工艺气体、温度、功率和压力控制。这种双腔室设计为用户提供了更高的吞吐量以及广泛的基板和工艺选项，腔室完全降压，以在整个加工周期中保持气体和温度的均匀性。该工具提供了模块化、紧凑的设计,并提供了与其他流程模块的灵活集成,使用户能够对流程进行最高程度的控制,从晶圆级到刀具级。该腔室的设计旨在提高效率，并在各种温度和工艺参数上提供一致的沉积，为用户提供可重复和可靠的单室和多腔室工艺配方。该配置也具有高度的多功能性,可轻松配置,以提供各种薄膜沉积功能,如设备层级层、晶圆层级层、订阅设备（DOS）基板传输和epi传输层。商会还为客户提供实施回流和晶圆稀释等特殊工艺的机会。APPLIED MATERIALS Centura Epi还具有许多其他功能,使用户能够实现所需的工艺参数,包括石英散热器、氮气清除和屏蔽功能。它还具有独特的等离子体驱动装置，保证了层厚度和器件特性的均匀性。该工具与一系列材料兼容，包括硅、SiO2、SiN、氮化物和氮化硅，其设计允许高工作温度范围和优越的沉积均匀性，提高器件产率和可靠性。Centura Epi的多功能设计还提供了实施高级流程战略所需的灵活性,并有助于及时引入新的设备设计。