二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9153809 待售
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ID: 9153809
System
(3) Chambers
Standard gas cabinet
Available:
UHP Gas cabinet
AccuSETT Control and nanovalves.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi是为先进半导体器件设计的高性能、低成本外延反应器。它利用先进的电极电介质技术为用户提供生产超高频和电力设备的经济高效的解决方桉。AMAT Centura Epi可用于GaAs和硅外延沉积过程,以及氧化物沉积和扩散退火过程。它有一个分体器设计,有一个分体环和旋转台,以及多个气体入口和出口端口。这允许独立操作多个过程,与进行晶片到晶片氧化的富氧选项。APPLIED MATERIALS Centura Epi专为最高生产力而设计,具有高速介电能力和双磁控管头,可高效沉积层状结构。它具有高分辨率的快门组件,可以精确控制沉积参数。它还具有风冷和水冷电极,以及广泛的腔室和线圈组件,以适应工艺要求。Centura Epi反应堆是一个高度稳定的系统,具有低频加热速率,以确保膜厚度均匀。其紧凑的设计使其能适应狭窄的空间,而先进的真空控制则提供了优化的工艺条件。反应堆还具有精确的温度控制和高精度的电阻温度探测器。该系统长期运行稳定,能够在广泛的处理条件下运行。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi反应堆还能够对复杂结构进行工艺回收和原位沉积,从而获得极其精确的结果。它旨在提供卓越的产品性能和环境可靠性,使其成为先进半导体器件生产的理想选择。该系统设计用于精确控制关键参数,为最先进的半导体工艺提供无与伦比的性能。
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