二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9236844 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi是一种外延反应器，设计用于在基板上产生外延层材料。采用AMAT Centura Epi设备制造的外延层比通过化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）等其他沉积方法获得的外延层具有更好的性能特性。开发该系统是为了提供一种快速、可靠、经济高效的方法来生长厚度和组成均匀的外延层。应用材料CenturaEpi单元由反应堆室和真空机两个主要部件组成。反应堆室是一个圆柱形的高真空室，有一个加热的基板支架，一个成角度的气体分配板，以及安装在腔室上部的4-6个电极系统。真空工具通过粗糙泵送、涡轮泵送和冷冻泵送的组合在腔室中产生真空。Centura Epi资产可以在高达1000 °C的温度下使用各种工艺控制参数和基板操作。沉积过程是通过将一系列反应物引入底物支架而在高度疏散的反应堆室内启动的。过程控制器调节每种反应物的流动和组成。反应物在底物表面上相互作用并形成外延层。该层的生长速率可以通过调节反应物比和底物温度来控制。在一些应用中，还可以通过仔细控制反应物的流动形成不同材料的超晶格。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi模型具有较高的沉积速率、良好的厚度均匀性和较低的粒度以及尖锐的界面。也可用于材料选择性好的薄膜沉积。该设备能很好地控制杂质掺入、低表面粗糙度和低温沉积，使其适用于III-V氮化物或高K电介质等敏感材料。此外，AMAT CenturaEpi系统对各种尺寸基板上高质量外延层的快速生长也是有效的。该单元的输出可用于高频设备制造、高级内存平板显示器和存储设备等多种应用。