二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9393367 待售

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ID: 9393367
晶圆大小: 8"
优质的: 1998
Reactor, 8" Type: Silicon cluster plasma (3) Chambers External step down transformer Flash memory drive VSB Blowers Accusette controller Heat exchanger: Grade 1 Mainframe: Wide body LL ENP Upper frame assembly HP Robot Transfer chamber Power supply: 208 VAC, CB 300A 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi是一种独立的分子束外延(MBE)反应器,用于研究和生产沉积和薄膜生长应用,如光伏和半导体行业的应用。AMAT Centura Epi设计为用户友好、机械和化学稳定、节能。它的模块化设计允许在三个不同的腔室中溅射,而MBE则在第四个腔室中实现。整个设备被装在一个紧凑的气密紧凑的框架中,腔室的墙壁被涂上了D2O,以减轻膜的污染。该系统建立在1.0E-9 Torr的真空水平上,而其超高真空(UHV)水平提供高达20埃/秒的沉积过程速率,均匀度高达20%。该装置的装载能力可以处理直径最大为12英寸的样品,并且对于直径最大为3英寸的基板可以进一步调节。APPLIED MATERIALS Centura Epi的多通道源控制允许同时对多达四个元素进行阵列化沉积,从而在基板表面上创建外延结构。这款工具还采用了带有电子控制电源和独立工艺室的气门间切换机,创造出定制的薄膜增长。该工具在直流和射频电源上运行,允许单层和多层薄膜的增长。增长率可以通过源控制的自动启动模式和实时参数显示控制来控制,以确保均匀的沉积操作。射频源配有阻抗匹配资产和内置衰减器连接直流流量放大器模型。Centura Epi还配备了冷却设备,以消散高达300摄氏度的温度。这个温度也可以用系统的内置热电偶控制器实时监控。内置扶手、脚凳和符合人体工程学的旋钮为用户提供舒适的工作体验。它确实是任何人在电影增长应用中寻求最终过程控制的正确工具。
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