二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HDP #9163132 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HDP设备是一种用于蚀刻沉积的高密度等离子体（HDP）反应器。HDP反应堆采用基于气体的工艺，在晶圆表面上创造出富含等离子体的环境，以产生亚微米结构。该系统由工艺室、室壁、工艺样品、射频发生器、射频匹配网络、射频功率放大器、湿度控制单元组成。HDP反应堆的设计是基于公认的共焦圆柱几何概念。该工艺室由一系列嵌套的圆柱线圈组成，在工艺室内产生强大的磁场。这样可以更好地控制等离子体，因为等离子体的电子和离子密度可以在整个腔室中被操纵。HDP单元利用两个射频源生成等离子体：射频发生器和射频匹配网络。射频发生器为等离子体提供初始高频功率，射频匹配网络确保功率在传递时与腔壁有效匹配。这有助于在基板上实现均匀的沉积和蚀刻。射频匹配网络也可以监控和操纵工艺室内部的温度，以确保过程一致。HDP机的腔壁由石英、氮化铝等介电材料制成，以最大化等离子体与腔壁之间的电绝缘。这提供了更好的控制等离子体和最终导致更均匀的沉积和蚀刻在基板表面上。腔室壁还配有外围加热工具，用于控制加工腔室的温度并确保等离子体的一致性。HDP资产还具有一个湿度控制单元,该单元有助于在工艺室内保持一致的相对湿度（RH）水平。过程中，腔内的RH必须保持相对稳定，以帮助防止血浆不稳定的形成。总体而言，AMAT Centura HDP是一种可靠高效的等离子体处理模型。设备的嵌套圆柱形线圈、射频发生器、射频匹配网络和外围加热系统有助于确保基板上的沉积和蚀刻均匀，而湿度控制单元则有助于保持腔内稳定的RH水平。这有助于在加工后的基板上提供一致的结果和统一的结构结构，使HDP单元成为亚微米蚀刻和沉积的理想选择。