二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HDP #9233062 待售

ID: 9233062
优质的: 2000
CVD System, 8" NBLL (3) Chambers STP-A2203 Turbo molecular pump ENI RF Generator 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HDP是为半导体制造而设计的高密度等离子体(HDP)蚀刻反应器,其器件特性尺寸低于1 µm临界尺寸。HDP设备利用一个基于氢气的十三级工艺室来产生极均匀、小的特性,并具有最小的过度蚀刻,从而使设备性能更好。该反应堆通过广泛的配方控制选项提供了极好的工艺灵活性,使其可用于光刻胶图样制作、高k电介质蚀刻和铜去除等多种应用。HDP系统允许对结构进行无约束的三维蚀刻,从而能够制造高长宽比特征,并具有出色的可重复性。此外,该装置的设计目的是减少颗粒物和挥发性副产品的排放,以保持安全和清洁的运作。AMAT Centura HDP利用Endura Multi-Chamber蚀刻机和传输模块两个连接组件。Endura工具由一系列腔室组成,允许多级沉积、蚀刻和清洁过程,而不会中断过程步骤的链条。资产有13个腔室,包括一个工艺腔室、冷却蚀刻炮塔、石英冷壁和用于晶圆转移的反应管。通过使用先进的射频电源,可以精确控制配方,使高密度等离子体技术成为可能。此外,Auto Endpoint Detection(自动端点检测)模型有助于对流程进行现场监控,从而实现最大吞吐量和最小的维护。传输模块包含晶圆传输设备,实现晶圆的高速装卸。该系统还设有集中式布线控制器、安全互锁和专用冷却单元,以确保晶圆的安全可靠处理。此外,该机器还配备了一个寒板清除站、一个冷气源、一个远程计算机界面和用户定义的配方。最终,应用材料Centura HDP是一种通用、高效的半导体加工HDP蚀刻反应器。它的高级功能和对配方的严格控制允许生产超小型设备的功能,以及为安全可靠的工作环境尽量减少排放。
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