二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HP PVD #9266126 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HP PVD（物理气相沉积）反应器是一种最先进的反应器，旨在将金属、合金和化合物的全覆盖膜精确地沉积在半导体晶片上。该反应堆采用集成脉冲直流电源，提供通量控制，提高均匀性，减少因高能自由基造成的损伤。AMAT Centura HP PVD反应器可以将金属、硅化物、电介质和其他材料沉积到晶圆表面上，给它们额外的防腐蚀和其他损坏的保护。它还设计了附加的安全功能，如机械臂、快门、屏蔽气体供应系统、具有监控能力的压力传感器以及紧急关闭阀。反应堆由三个主要子系统组成：工艺室、偏置发生器和喷头。工艺室是涂有透热热解石墨或W-C的石英室，可加热至1000 °C，此室装载多达400个晶圆，可容纳多种靶材。偏置发生器用于通过改变目标的偏置电压来控制等离子体。该发生器可在每个批次的所有晶片上实现均匀的薄膜沉积，以及精确的层厚度控制。Showerhead可用于注入前体气体或离子束的淋浴，使金属、合金和化合物以受控速率沉积。应用材料Centura HP PVD反应器是在基材上沉积多种薄膜的高效工具。其耐热室和精确控制的直流源使薄膜的沉积速度比传统聚氯乙烯反应堆高得多，提高了生产率和吞吐量。该系统的晶圆兼容性通过其高度通用的Showerhead得到进一步扩展,其现场过程控制和自动紧急关闭阀使操作更加安全高效。Centura HP PVD Reactor是沉积均匀全覆盖薄膜的可靠高效工具，是任何半导体制造设施的绝佳选择。