二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HP PVD #9276863 待售

AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HP PVD反应器是一种化学气相沉积（CVD）设备，专门设计用于提供各种材料的均匀、高性能层沉积。它能够在一次操作或多层中沉积多种金属，包括铝、钨、钛、铜和其他合金。该系统采用了一种创新的高性能Crucible辅助CVD （IHPCVD）技术,在比传统PVD系统快三倍的沉积速率下提供了更好的层均匀性和均匀性。AMAT Centura HP PVD可沉积各种材料成分，厚度可达6mm层，保形性好。该装置极其可靠，热循环时间快，周转速度快。它可以很容易地集成到多室机中，以提供高效的吞吐量。APPLIED MATERIALS Centura HP PVD的CVD工艺由注气加热计算机控制的过滤工具提供动力。这一资产能够在沉积室内建立一个精确定义的工艺气氛，同时确保反应物气体的一致输送和对化学反应的准确控制。反应物气体通过位于反应堆中心的过滤气体入口歧管引入。这保证了工艺室内气体的均匀分布，也允许模型实时调整反应物组成，以确保最优分布和沉积。专有的多区工艺室设计提供了额外的均匀性，并控制了整个基板表面的层厚度和组成。这个腔室利用加热的墙壁来确保整个基板区域的沉积具有广泛的均匀性，同时也提供了"倾斜"基板以达到不同层厚度的灵活性。此外,先进的层控制设备可确保工艺精度和最大导电率。炉子配有一个氮气进气室，在整个炉子内部提供均匀的氮气流动，使系统能够在高温高压下运行，而不会损害炉子的安全性或完整性。Centura HP PVD能够以无与伦比的精度和高宽高比沉积各种材料组成、厚度、几何形状和特征。该装置具有快速的热循环时间和高达2.2升的批量生产能力，非常适合大批量生产。最后，机器的坚固性使得它能够在腐蚀性和高温环境下操作。所有这些功能使APPLIED MATERIALS/AMAT/APPLED MATERIALS Centura HP PVD成为可靠且高性能的沉积工具,能够为各种应用提供均匀且可重复的涂层。