二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HTF #9260258 待售

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ID: 9260258
优质的: 2006
Epitaxial cluster system (3) Chambers atmospheric: Standard EPI Logitex wafer handling control Cooling circuit with digital flow-meters Door Interlocks PC Controller Temperature control: Dual pyrometer Process gases: TCS, PH3, Porr External cooling: Water cooled CE Marked Power requirements: 480 V, 240.0 Amp, 50 Hz, 3 Phase 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HTF(高温炉)是一种真空外热处理反应器,用于半导体晶片和集成电路的製造和製造过程。该炉设计为在500至1200摄氏度的温度下运行,能够进行先进的热处理应用,如氧化、氮化、快速热处理(RTP)退火、热扩散和其他高温过程。AMAT Centura HTF由四区水平安装的炉膛组成,由开槽的特氟龙或高温合金材料构成。该腔室由水冷、RF驱动的不对称感应线圈加热,可以分别或组合在碎屑表面附近安装气体喷嘴,用于引入惰性或反应性过程气体(如氮气和氧气)。利用先进工艺控制器可以精确监测和调节炉膛的温度,该控制器还支持专门的基板支撑技术。控制器直接连接到Centura硬件,使工艺工程师能够调整和控制各种参数,包括温度、停留时间和气体流速,以达到预期的效果。APPLIED MATERIALS CENTURA HTF的设计考虑了安全性,提供了有效的安全和环境保护。该室配有爆炸控制系统,符合OSHA和NFPA标准,而冷却系统则适当地防范突如其来的过程转移。另外还有一些安全措施,如紧急关闭开关和接地故障电路中断器。AMAT CENTURA HTF是一种经济高效的解决方桉,可满足热处理需求,提供卓越的质量、可重复性和可重复性,同时实现所需的结果。因此,它已成为半导体芯片和集成电路制造的重要组成部分。
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