二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I #9093472 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I Reactor是一种高温化学气相沉积（CVD）半导体处理设备。它是为介电膜和导电膜在晶圆基板上的沉积而设计的。AMAT Centura I反应堆是一个热隔离盒式系统，设计成一个高效可靠的半导体制造平台。APPLIED MATERIALS Centura I配有水平腔室和垂直阀歧管，两者均装在不锈钢外壳中。该装置利用高温工艺气体流动，能够达到300毫巴的运行压力。此外，该腔室还涂有一层抗电子束处理层，以降低热点温度，并有助于最大程度地减少电子束辐照损伤。Centura I还提供一系列创新功能和高级流程功能,如直观的软件界面、集成的自动定心、现场备份和流程控制自动化功能。该机还具有过程的实时可视化，并具有控制气流和压力水平以进行精确沉积控制的能力。该工具由一个可更换的感应板组成，具有高度均匀的功率分配。该板由电热的石墨板组成，用作基板的安装表面。在沉积过程开始之前，这种感应板是预热的，并确保了均匀的温度分布。该资产配备了高速定位模型，在沉积循环的整个过程中以10厘米/秒的最大同质速度移动基板。此外，该设备还可以补偿基板的热诱导运动，并配有专门的锁定机构，以确保安全和分布良好的沉积。采用集成旁路流量控制装置进一步提高了系统的性能.这台机器使用户能够创建精确的气流以进行精确的沉积控制。此外,该工具还包括一个高级实时优化（RTO）模块,用于现场过程控制和优化。该模块旨在实时优化工艺参数，提供精确准确的沉积结果。总体而言，AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I反应堆是一种创新的尖端半导体加工资产，设计用于在晶圆基板上沉积介电膜和导电膜。该模型具有精确的沉积控制、良好的均匀性和可重复性.它还旨在通过使用专门特性和加工气体确保精确和准确的沉积结果。