二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I #9184826 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 9184826
晶圆大小: 8"
WCVD System, 8"
WxZ
(3) Chambers
Main body
ENI Generator rack
Monitor rack
System controller
(4) Covers
(2) Cables
Mainframe: Centura I Phase I
Chamber A:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Process kit: 200mm
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber B:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Process kit: 200mm JMF
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber D:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber E: Single cool
Chamber F: Oriental
Robot: HP
Load lock: Wide body
Gas box: CI
No heat exchanger
Umbilical length:
CA Chamber A, B, C & D: 50 FT
Gas configuration:
Chamber A, B & D:
WF6 / 200
WF6 / 50
C2F6 / 500
AR / 3000
O2 / 1000
SiH4 / 300
H2 / 500
H2 / 2000
N2 / 300
Control rack:
Serial isolator
System reset
(2) Lk Det 1&2 / Conv/TC
No floppy disk drive
No hard disk drive
Chamber interfaces: A, B, D & E
Mainframe interface
Loadlock interface
Chamber A, B, D: DI/O 1&2
No chamber C: DI/O 1&2
Chamber E: DI/O
Synergy SBC
No controller, 486 V
No APC VME Seriplex PCB
SEI
Chamber A, B, D: AI/O
No chamber C AI/O
Mainframe AI/O
Chamber E/MF AI/O 2
(6) Mainframes DI/O
(3) Steppers
OMS.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I是一种紧凑、大体积、高性能的化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于各种材料的薄膜的单室或双室沉积。AMAT Centura I反应堆设计为单室设备，带有封闭的大气压反应堆室。该系统由一个强大的变频感应加热装置提供动力，能够达到1,000 °C的温度。金属蒸气反应物通过顶部引入反应室，而底物则从正面装卸。APPLIED MATERIALS Centura I反应堆装有射频发生器，提供了一种以多种方式控制过程的手段，包括功率控制、温度控制、反应物流量控制、反应物溷合物控制。封闭的沉积室是加压的，允许亚微米薄膜沉积在包括金属和半导体在内的一系列基板上。此外，Centura I反应堆具有变频电源，可以精确控制过程。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I反应器的封闭式沉积室设计为最大限度地减少杂质暴露，提供更好的薄膜质量。真空室由石英构成，带有氧化铝衬里，为沉积过程提供惰性气氛。该装置采用极耐用的不锈钢完成，防止基板受到污染，并配有一个光学窗口，用于监测沉积过程。AMAT Centura I是一种经济高效、高性能的CVD机器,可在各种材料上的高质量薄膜沉积过程中提供可靠的过程控制。操作简单的工具能够持续生产具有出色耐用性和可靠性的薄膜,使其成为原型制作和工业生产的热门选择。
还没有评论