二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #293830296 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS+是一种高精度的化学气相沉积（CVD）反应器。用于生产极薄且均匀的导电、绝缘和半导体薄膜。AMAT Centura II DPS+旨在满足当今大批量EPI和HVM应用程序的需求,提供最高级别的精度、准确性和可重复性。该设备兼具高通量、最高温度稳定性、低粒子发射以及复杂至简单过程的独立反应物控制能力。APPLIED MATERIALS Centura II DPS+系统具有创新的设计体系结构,允许使用直观、易于使用的用户界面进行高精度操作。它提供了广泛的设备功能和选项。数字流量控制器和主机计算机提供了对沉积过程的精确控制，使基板形状、尺寸和几何形状具有最大的灵活性。该机器旨在支持一系列CVD和EPI应用，包括薄膜的生产、电子元件的封装和MEMS。该工具可沉积厚度在400至1000 nm之间的薄膜，典型氧化物沉积速率为90-200 nm/min，典型氮化物沉积速率为300-400 nm/min。该资产配备了全湿工艺模块，利用专有的多区加热浴技术，确保高温均匀性和N2使用率低。该模型还采用水溶液自动陶瓷过滤器清洗，保证了高蚀刻室的清洁度和保持工艺质量。Centura II DPS+设备设计用于生产和研究优化应用的最佳输出。该系统还具有可定制的硬件和软件配置,可以灵活地满足特定的客户要求。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS+单元具有内置的安全功能,如气体和电源联锁、压力感应监视器、自动故障安全功能、多路复用器切换等。该机设计可靠，保证了可重复性和最高效率。简而言之,AMAT Centura II DPS+是一种高精度的CVD工具,可提供最高级别的准确性、可重复性和控制。它是通用且可定制的设计,可用于各种CVD和EPI应用程序,提供最佳效果。APPLIED MATERIALS Centura II DPS+资产非常适合任何大批量生产或高级研究需求。