二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #9029478 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS+反应堆是一种先进性能的蚀刻沉积设备，设计用于生产高质量的半导体器件。AMAT Centura II DPS+提供了先进的蚀刻和沉积能力，适合用于生产CPU、GPU和内存设备等集成电路。针对单、多课题蚀刻、PECVD、溅射、PVD、ALD和CVD等先进制造工艺进行了优化，可用于多种集成电路制造应用。该系统专为高吞吐量而设计，最多可容纳三个处理室。它旨在容纳各种加工气体，包括N2、O2、NF3、CF4、SF6和Ar。它的晶圆敏感器还能使晶圆的高计数达到150 mm或200 mm。此外,APPLIED MATERIALS Centura II DPS+提供了一个宽广的工艺窗口,在整个基板上具有出色的均匀性,并且可以与传统的蚀刻工艺（如ICP、RIE和多晶片蚀刻）集成在一起,以改进工艺控制。Centura II DPS+利用压力伺服控制平台来确保热量管理,此功能消除了在其他系统中可能发生的温度干扰。该反应堆利用专有的热区技术来减少点火延迟，并配有一个内置的阀门控制单元，以确保有效的晶圆预清洗。反应堆由光电池和主动冷却装置构成,能够改进机器高性能操作的电源管理。此外，AMAT/APPLICED MATERIALS Centura II DPS+的设计便于维护，因为所有消耗品和备件都位于反应堆的正面。最后,AMAT Centura II DPS+配备了用户友好的AMAT Osmic™软件包,用于监视和控制工具的操作。该软件允许操作员自定义资产的设置和参数,并有效地排除问题。该模型提供可靠的开箱即用性能,即使在最小的操作员调整下也能获得可靠且可重复的结果。它还通过其内置的自动清洗顺序确保了可靠的室内清洗过程。综上所述，APPLIED MATERIALS Centura II DPS+是一个强大可靠的反应堆，能够高效生产半导体器件。