二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #9174726 待售

AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS+是一种用于集成电路制造的氧化物掺杂源。它是一种单一晶圆垂直高密度血浆（HDPCVD）反应物，可以产生多种氧化物掺杂剂。它既能处理p型掺杂剂，如硼，又能处理n型掺杂剂，如磷。这种反应器非常适合需要极为一致的掺杂特性的应用。AMAT Centura II DPS+使用了根本性的独特sigma-net控制设备,动态、自主地配置晶圆处理参数以获得最佳结果。该系统还设有一个八气体输送和疏散装置，可独立控制源反应物，从而实现高度定制的掺杂剖面。它包括一个提高工作流程效率的垂直多区域机动轨道，一个用于气体分配均匀性的垂直提升气体分配机，以及一个改进的用于重新配置和数据收集的软件包。反应堆还设计用于提供精确的沉积速率控制和均匀掺杂，使用多区可变动力工具与交流等离子体。电源传递资产旨在立即调整每个区域的电源,从而实现高度可重复的生产过程。该反应器还具有温度管理模型，以获得准确的结果，具有加热喷嘴和嵌入式温度传感器，可对沉积和扩散过程进行高度精确的控制。反应堆还提供精确的厚度和均匀性控制，可通过车载紫外线臭氧分析仪进入多区双过滤器设备。该系统有助于监测反应物的纯度，并查明可能造成污染的未成熟颗粒。它还具有用于精确晶圆取向的自对准单元和用于更好均匀性的单向加热载气。APPLIED MATERIALS Centura II DPS+具有广泛的安全特性，包括用于在反应堆腔内完全安全壳的真空锁和辐射腔内光学器件上的防反射涂层。它还具有一个安全的远程监视机器来实时观察刀具的状态,以及一个用于跟踪流程历史和数据的日志记录资产。为了最大限度地节省正常运行时间和成本,该模型设计为在加载多个晶片时以最佳效率运行。有了所有这些特性，APPLIED MATERIALS/Centura II DPS+是制造集成电路的可靠高效的氧化物掺杂源，需要高度一致的掺杂轮廓。