二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #9358593 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS+是为半导体器件制造而设计的多功能深紫外线（DUV）光敏处理反应器。它能够以很高的精度和吞吐量同时处理多个光刻胶层。该反应堆具有先进的晶片处理自动化，使其能够满足对低k1和低Dk光刻胶日益严格的生产需求。DUV辐射源是一个350W氘灯和一个反射镜。该反射器旨在优化单模光束产生的DUV辐射剂量。辐射直接对准在反应器的敏感器中保持的样品晶片。感光器被灯加热到均匀的温度，然后调节温度以匹配加工过程中使用的光刻胶。该反应堆还具有先进的晶圆处理机构和三级夹紧系统，可确保高工艺均匀性。该系统还包括真空卡盘，便于装卸。反应器有三个独立的静电夹，将样品固定在适当的位置，以确保可重现和可重复的过程。反应堆具有反应性气体输送系统，压力高达100 mTorr，可实现低k1和低Dk辐照。该反应堆还具有较低的热预算，提高了均匀性和吞吐量。它配有温度控制器，可调节感光器± 1 °C。磁感器温度是通过内置热阵列测量的。此外，反应堆有一个清洁站，在每个过程后通常用来清除反应堆的污染物。AMAT Centura II DPS+是任何高质量、高精度光刻处理需求的理想选择。它非常适合在复杂的工艺中使用，例如制造低k1和低Dk材料。因此，它是前沿半导体器件研究和制造的绝佳选择。