二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS #9402435 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS Centura II DPS是为高级研发和生产应用而设计的大批量批处理薄膜沉积设备。该系统设计为提供快速可靠的薄膜生长方法，适用于硅集成电路制造工艺中的多种应用，如溅射蚀刻、电介质沉积等先进工艺步骤。该单元包括两个模块：薄膜沉积模块和溅射模块，该模块可提供对单个腔室中沉积速率的精确控制；两者都由直流（DC）等离子体源和射频（RF）等离子体源的组合供电。薄膜沉积模块利用射频功率在基板上产生等离子体和沉积膜。该工艺可用于沉积厚度达50纳米的薄膜，具有极好的可重复性。DC和RF源可以结合使用，控制材料通过沉积室的流动。该室包括温控真空卡盘和运动控制运输机。运动控制可以精确控制沉积速率，保证膜的均匀性。运输工具还提供了一种快速、简便的方法，无需人工干预即可将基板从一个腔室移动到另一个腔室，从而缩短了循环时间。溅射模组是利用氙气产生一个离子源，用于蚀刻和溅射膜到基板上。资产能够加工直径最大为10英寸的基板，并利用可调节的直流功率来控制蚀刻速率。溅射模组的设计提供了均匀性和可重现性，同时也提供了对胶片质量的高度控制。AMAT Centura II DPS是一种高科技生产解决方桉,可提供可靠和一致的结果。该模型被设计为提供快速、精确的薄膜沉积，同时也允许用户调整参数以达到期望的效果。DC和RF源的结合以及较高的控制水平保证了薄膜的可重复性和均匀性。