二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II eMax #9260047 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II eMax反应堆是一种用于半导体制造的高温高压工艺室。全设备由集成式热交换器和压力控制系统、高纯度气体输送、超高真空（UHV）环境以及一套原位计量工具组成。AMAT Centura II eMax反应堆的设计具有卓越的工艺控制和可重复性,能够可靠地制造前沿多层半导体器件。APPLIED MATERIALS Centura II eMax的核心是温度较高、压力较高的工艺室。该腔室的温度可高达900 °C，并且在一个大气中包含压力。由于Centura II eMax高效的设计和精密的电源/电气配置,它可以快速加热或冷却,从而实现高效的循环时间。此外，该工艺室是自我监控的，并提供了工艺温度和压力的实时视图。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II eMax还配备了先进的集成热交换器和压力控制单元。这种集成的机器根据独特的光刻工艺，智能调节工艺室的温度和压力。该工具确保了工艺室的精确调节，无论制造的是半导体层。集成资产还可以节省成本,因为不需要额外的外部组件。AMAT Centura II eMax包括用于CVD（化学气相沉积）和其他工艺的高纯度气体输送。它们包括源气体以及排气/净化系统。这允许用户针对不同的半导体需求创建广泛的材料化学体系。APPLIED MATERIALS Centura II eMax包含超高真空（UHV）环境，以提供最大的工艺纯度。这种特高压环境确保挥发性颗粒、污染物或气体不会损害半导体晶片的性能或质量。此外，特高压环境还有助于减少污染，因为某些颗粒和气体很容易从室内清除。在原位计量学方面，Centura II eMax提供了顶级的线路功能。这包括能够监控晶片的材料沉积速率和轮廓,以及在处理过程中监控设备性能。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II eMax还提供了测量不同材料的薄膜厚度、使用高级配方控制自动调整腔室条件以及可视化所创建的不同层的功能。AMAT Centura II eMax模型是为先进半导体制造而设计的线路反应堆顶部。它强大而先进的特性，使得高性能半导体晶片的处理更加精确和可重复。这是通过先进的工艺室、集成的换热器/压力控制设备、高纯度气体输送、超高真空环境以及一套原位计量工具实现的。