二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II IPS #115406 待售
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已售出
ID: 115406
优质的: 2001
dielectric etch system
Install type: Stand Alone
CE Marked
Cassette Interface:
(2) Bolt-on Asyst LPT-2200
Centura II M/F
Robot: HP+ Extended Reach w/Single Blade (Ceramic)
Manual Lid Lift Assist
Load Locks:
Wide-Body w/Auto-Rotation for cassettes
Enhanced wafer mapping (fast-detect)
Chambers:
Ch-E: Blank
Ch-F: Standard Orienter
Ch-A, B, C& D: IPS
ESC Pedestal w/Helium Cooling
RF Generators: Astex Model 80-510-HP
Turbo: Leybold MAG2010C
Throttle Valve: NorCal
H.O.T. Endpoint
Chiller Dome: Bay Voltex LT-HRE
Chiller Cathode: Bay Voltex LT-HRE
Gas Box Config (Pallet modules):
Bottom Feed SLD Gas Panel
Bottom Exhaust w/Vane Switch
GP Controller: VME II
75 feet Umbilicals
System Controller:
66” IPS Controller
Bottom Feed AC, Top Exhaust
30mA GFI
AC Rack:
Main AC Rack IPS Position AB
Secondary AC Rack IPS Position CD
2001 vintage
As-is, where-is.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II IPS是一种先进的多晶圆制造反应堆设备，用于半导体制造过程。该反应堆系统可执行高温高压反应性离子蚀刻（RIE）、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）等先进制造工艺。该设备每小时可处理多达200个晶圆,其晶圆尺寸可达8英寸。该机设计为提供安全、经济高效的生产过程，同时保持精度和可重复性。AMAT Centura II IPS配备了独一无二的IPS腔室，该腔室有两个独立的工艺区，允许用户独立控制这些腔室中的每一个腔室的气流和温度。IPs腔室还提供比整个腔室更高的温度均匀性，从而产生更均匀的处理结果。反应堆还设有一个大的隔室板，允许更大和更复杂的设计规则。该工具还利用高压电源,实现了更快的无功离子蚀刻。资产可以处理各种过程，包括蚀刻、沉积、平面化以及其他几个与过程相关的任务。该模型还可以加工多种材料，如多晶硅、poly-SiO2、poly-SiN等多种材料。该设备还具有一系列安全功能，如冗余安全百叶窗、互锁阀和防爆密封。该系统配备了先进的软件和电子设备，能够对反应堆环境进行更大程度的控制，实现高可重复性、准确性和质量。该单元还利用预测分析，允许在饱和发生之前预测过程缺陷和拒绝晶片。总之，APPLIED MATERIALS Centura II IPS是一种高度先进、效率极高的多晶圆制造反应堆机器。它能够每小时处理多达200个晶圆，同时保持高精度和可重复性。独特的IPS腔室和其他安全功能使工具安全、经济高效。先进的软件和电子设备可以更好地控制反应堆环境，从而提高产量，减少中断。
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