二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II #9137520 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II是专门为化学气相沉积（CVD）、化学机械平面化（CMP）和原子层蚀刻（ALE）应用而设计的反应堆。它是利用化学和机械工艺制造和精炼半导体器件的单晶圆加工设备。该系统配备了强大的4.5 kW源发生器，允许高沉积速率和高精度蚀刻。AMAT Centura II采用了专有的Multi-Chamber设计，允许对每个腔室进行独立控制，最大腔室压力高达6 Torr。该装置还包括一个获得专利的气体输送机，确保在整个过程中一致的气体溷合物。APPLIED MATERIALS CENTURA-II反应堆安装的腔室尺寸可从50毫米腔室到500毫米腔室不等，具体取决于用户的需求。它具有温控晶圆高温计、速控旋转和慢跑阶段以及终点检测等一系列先进功能。这种精确的控制和精确度允许高度精确和可重复的过程。AMAT CENTURA-II反应堆的设计使自动化过程具有运行到运行的过程控制能力，使其适合大批量生产。它基于与centura实验室系统相同的真空技术和硬件,从而实现了极大的可扩展性,并实现了从实验室到生产的过渡。为了过程安全，CENTURA-II反应堆有一个内置的诊断工具，提供关键操作参数的监控，如压力、温度和气体分布。该资产还包括用于远程查看模型条件和控制器参数的高级监视显示。总体而言，AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA-II是一种用途广泛、可靠、功能强大的反应堆设备，适用于一系列CVD、CMP和ALE应用。凭借其专利功能和高级控制功能,APPLIED MATERIALS Centura II是半导体器件制造的宝贵工具。