二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura IPS #9204132 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura IPS是一种单晶圆纳米级器件制造设备，设计用于研究、开发和制造最先进的半导体器件。该系统由一个脉冲电感耦合等离子体（ICP）源提供动力，使离子能量和快速响应时间极低。获得专利的同轴离子源通过控制施加的电压和压力，提供了对等离子体护套尺寸和形状进行精细控制的独特特点。其计算机控制操作提供了全面的过程控制，使得AMAT Centura IPS适合广泛的应用。ICP源使用两个具有顶部（内部）和底部（外部）线圈的线圈,这些线圈可以用正弦波形通电,并通过可调相移同步。ICP源在流动气体存在的情况下产生控制良好的脉冲等离子体放电，从而允许对材料进行控制良好的加工进入所需状态。晶片托盘位于ICP源的电极之间的处理腔中。从ICP源发出狭窄的等离子体能量束，定义了一系列在可重复循环中发生的过程步骤。这个单元使各种材料，如二氧化硅、氮化硅和聚合物能够蚀刻和沉积到不同大小和形状的基板上。APPLIED MATERIALS Centura IPS有两种不同的工艺,每种工艺都有可定制的参数,可以将反应性材料精确地沉积或蚀刻到纳米级。蚀刻工艺包括与低温沉积工艺相同的参数，具有可选的光刻剥离性能。简单的用户设置和参数允许重复和快速的流程周期。Centura IPS配备了集成的端点监视器,它允许对等离子体过程和预定端点检测进行准确且可重复的监控。通过监测等离子体参数，机器进行自我调整，以确保在沉积和蚀刻过程中保持预期的基板和工艺温度范围。集成端点监控器还提供了一种经济高效的方法来消除多重测量障碍，因为离子能量、离子通量角和工艺参数的其他位移可以根据需要进行补偿。该工具还采用了一种高度敏感的粒子检测方法，旨在检测基板表面极低水平的粒子。此方法允许快速轻松地进行过程评估、优化和端点监控。最终结果是以最大均匀度精确控制批次晶片，从而提高了性能，提高了产品产量，降低了成本。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura IPS具有很高的吞吐量能力,每小时可生产超过25个晶圆,或8小时轮班生产150个晶圆。总体而言，AMAT Centura IPS是最先进的单晶圆器件制造系统之一，其专利同轴离子源提供了对等离子体护套尺寸和形状的精细控制。该资产具有出色的过程控制功能,集成了端点监视器和用户友好的设置,使其适合各种应用程序。APPLIED MATERIALS Centura IPS坚韧可靠,具有高吞吐量能力,可提高性能、产品产量和成本。