二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MCVD #293595634 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MCVD （Metalorganic Chemical Vapor Deposition）反应器是一种用于半导体器件制造过程中外延层生长的高性能、先进的沉积系统。该系统旨在提供卓越的均匀性和薄膜特性,从而实现更高的设备均匀性和更高的性能。AMAT Centura MCVD反应堆采用前沿、通用的设计。它配备了可控的气体输送系统，允许精确的气体分配和控制。这确保了所需的气体在整个反应堆室内均匀输送。这种特性还可以更好地控制室内大气和底物温度，从而产生更高的质量和更均匀的沉积。该反应堆的设计目的是产生一致和可重复的沉积结果，即使在处理各种底物时也是如此。这是由独特的MCVD沉积过程实现的，它结合了化学气相沉积（CVD）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）的理想特性。它从适当材料的保形分子层沉积在底物上开始。这个分子层作为进一步沉积过程的模板，作为附加层通过化学手段与第一层反应形成更高的层沉积物。这样可以增加厚度和均匀度可靠的多层材料，改善表面形态。与其他沉积系统相比,应用材料Centura MCVD反应器具有几个明显的优点.它具有较高的沉积速率，允许更快的处理时间。另外，由于气体输送的来源多，反应室壁内没有死区。这导致整个层沉积过程更加均匀。MCVD工艺也极具能效，比其他沉积系统节省了成本。Centura MCVD反应器是多层材料沉积的理想工具。它提供可靠、均匀、高质量的沉积结果，是当今半导体器件制造过程中必不可少的工具。