二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #166626 待售
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ID: 166626
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
Oxide etch system, 8"
Install Type: Stand-Alone
Cassette Interface:
(Qty 2) Jenoptic InFab (SLR-200-LPTSL/R) Bolt-On SMIF
Wafer Shape: SNNF (Notch)
Centura (common) M/F:
Robot: HP
Robot Blade Type: Ceramic
Wafer on Blade Detect
Umbilicals :
Cntrl - M/F: 40ft
Pump - M/F Intfc: 50ft
RF PS - Chamber: 50ft
Water Leak/Smoke Detection
Facility Connections: M/F Rear
M/F Exhaust Line: 304SST
Status Lamp (RYG)
System AC / Controller:
Type: Phase 1
System SW: Legacy E3.8
Endpoint SW: ENDP28
GEMS / SECS Interface
GEMS SW ver.: OS2 E3.8
Load Locks:
Wide Body w/Auto-Rotation
25-Wafer Cassettes
Wafer Mapping
Chambers:
Position Chamber Type
E: Orienter (OA)
F: Orienter (OA)
A: MXP+ Oxide
B: MXP+ Oxide
C: MXP+ Oxide
D: MXP+ Oxide
Chamber E/F: Orienter (OA)
Lid Type: Hinged
Chamber A/B/C/D: MXP+
Lid Assy PN: 0010-36123 rev A
Lid Type: Screw/Bolt Down
Pedestal Type: Polyimide ESC
Process Kit: Quartz Single Ring
RF Match Type: Phase IV
Cathode Type: Simplified
Bias RF PS: ENI OEM-12B3
Endpoint Type: Monochromator
Throttling Valve + Gate Valve : Vat 65
Turbo Pump: Ebara ET300WS
Gas Box Config:
Vertical height: 31”
(Qty 10) Gas line positions per Pallet
Valve Type: Fujikin
Filter Type: Millipore
Transducer Type: SPAN
Controller Type: Standard
Facility Line Connection: Single Line Drop, Top Exhaust
Heat Exchanger / Chiller:
(Qty 2) Neslab 150
Fluid Type: 50 / 50
Power Requirements: V 208, 400A, 3-Phase, 4-Wire, 60Hz
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP+是设计用于纳米加工过程的沉积反应器。它配备了强大的微波等离子体源，利用热有机基化学气相沉积（CVD）技术将分子薄膜沉积到基质上。MxP+的设计非常可靠,使用寿命长,非常适合关键生产过程。MxP+在真空室中操作。微波源提供能量，从反应气体中产生等离子体，然后将其定向到底物上引起CVD。根据反应气体的不同，可以沉积广泛的材料，包括金属、氧化物、氮化物和半导体。反应气体的流动控制使材料的精确沉积具有精确的厚度控制。MxP+配备了柔性晶片臂，使直径达六英寸的晶片能够在腔内加载和移动。它是一个高度自动化的系统，具有用户友好的界面，允许用户创建和存储流程。它可以在一定温度、压力和功率级别范围内操作,因此用户可以选择最佳参数以获得所需的结果。温度被监测并保持在严格的公差范围内，以确保准确的沉积速率。MxP+配备了多种安全功能来保护用户和被加工的基板。腔室充满低压气体，用于减少晶圆臂与腔壁之间的热传递。这有助于防止对基板的热损坏。该系统还包括一个自动剂量控制加功能，该功能调节微波源产生的等离子体数量，以保护腔壁，减少产品污染的可能性。MxP+是研究和生产应用的理想选择，提供精确度、可靠性和可重复性。它使用户能够开发新的沉积过程或优化现有的过程以提高性能。这种高性能的沉积反应器为先进的纳米加工应用提供了理想的解决方桉。
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