二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP #9189048 待售

ID: 9189048
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
Poly etcher, 8" C1P2 NBLL (4) MxP, ORT, HP TMP Controller missing 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP Reactor是一个薄膜增长平台,旨在为当今最苛刻的技术市场经济实惠地生产高质量、先进的材料。AMAT Centura MxP反应堆使用高能等离子体蚀刻、生长和加工包括硅、SiOx、SiNx、Ge、SiGe和C在内的多种材料。该反应堆设计可容纳多达三个沉积室,并提供可定制的配置,不仅具有很高的灵活性,而且具有成本效益。APPLIED MATERIALS Centura MxP Reactor提供了磁控管溅射源和电子回旋共振(ECR)源的选择,用于高效、低成本的薄膜形成。集成的晶圆处理机器人允许在加工室内进行高效的晶圆和基板安装和调节。MxP是根据用户的特定要求进行出厂预配置的,包括材料的选择和等离子体加工技术。Centura MxP具有多项功能,可最大限度地提高流程效率并降低运营成本。反应堆配备了实时过程监控、双热偏置能力和积极的动力控制。通过使用实时过程监控(RTP),反应堆可以立即识别沉积过程中的任何动态变化,并自动调整过程配方以保持过程稳定。此外,双热偏置(DTN)允许在等离子体和基板上同时施加电偏置,促进在大面积目标上均匀沉积,并生产高质量的薄膜。AMAT/APPLICED MATERIALS Centura MxP Reactor标配现成的配方、详细的过程监控、安全的通讯和先进的等离子诊断,以获得最高的处理性能。反应堆提供300 mm的最大晶片尺寸,高达1000 °C的最大晶片温度,能够产生10.0至1000.0 nm的大范围薄膜厚度值。AMAT Centura MxP Reactor是许多薄膜沉积应用的绝佳选择,为用户提供了开发高性能材料的经济高效、高度配置的平台。凭借其可靠的性能、出色的过程控制和高级功能,APPLIED MATERIALS Centura MxP为用户提供了满足其最苛刻的过程要求的最佳解决方桉。
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