二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9257030 待售
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已售出
ID: 9257030
晶圆大小: 8"
优质的: 1995
System, 8"
Wafer shape: SNNF
Centura type: Centura 1
No SMIF interface
Chamber B and C: MXP+
Chamber F: Orient
Buffer robot type: HP
Buffer robot blade: Metal
MF Facilities: Bottom
Smoke detector: Alarm
AC Rack type: Phase 1
Controller rack type: Phase 1
Controller to AC rack: 60 Ft
Pump interface cable: 50 Ft
Load lock type: Wide body / Core tool
Wafer detector: Alarm
Wafer sensor
EMO
Monitor and EDP monitor: Wall mount
Controller to mainframe: 60 Ft
RF to Chamber coaxial: 50 Ft
Chamber A, B and C:
Chamber type: MxP+
IHC Type: MKS 1179
Lid type: Clamp
Bias RF match
Magnet driver
Cathode type: Simply cathode
Gate valve: VAT Gate
ESC Type: Polymide
Manometer type: 1 Torr
Slit valve O-ring: Viton
RF Generator bias: OEM-12B
Endpoint system: Monochrometer
Turbo pump: SEIKO SEIKI 301
Throttle valve: Butterfly
No auto bias
Gas configuration for chamber A, B and C:
GAS 1 / CH2F2 / 100 SEC-4400MC
GAS 2 / SF6 / 100 SEC-4400MC
GAS 3 / N2 / 100 SEC-4400MC
GAS 4 / O2 / 100 SEC-4400MC
GAS 5 / CF4 / 150 SEC-4400MC
GAS 6 / CHF3 / 200 SEC-4400MC
GAS 7 / AR / 200 SEC-4400MC
Gas delivery options:
STEC MFC
Filter: MOTT
Transducer: Core tool
Gas connection: Single line drop
Gas line feed direction: Bottom
Exhaust feed side: BD Side
Transducer displays: Core tool
Regulator: Core tool
Valve: Core tool
Gas line feed side: AC Side
Exhaust: Top
(2) Chillers:
NESLAB HX150 Heat exchanger for cathode and wall
W/RS-485 Interface
Chiller hose size: 3/8 Quick
Generator rack and chiller valve connection: Manifold
Transformer: 208 / 400 A
Line frequency: 60 Hz
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP+是一种专门的PVD(物理气相沉积)反应器,设计用于大批量生产和金属和复合膜的沉积。设备的模块化设计允许灵活和可扩展的过程配置,同时提供卓越的产品统一性和较高的过程吞吐量。固定式多面板工艺室由不锈钢制成,具有独特的形状,可以使材料在整个晶片上高效传热和均匀沉积。AMAT Centura MxP+反应堆受专有气体净化系统保护,该系统使用扩散器过滤过程环境中的污染物,从而使材料生长更加一致。该装置配备了一套强大的控制和监控功能,包括高分辨率实时处理计算机、可调温度板和带集成快门的电子束枪,用于精确沉积控制。此外,还有三个独立的离子源,可以进行精确的表面清洁和高能蚀刻。其他功能还包括多驱动器机器,它可以提供快速的基板加热和冷却,以及驱动器优化的高厚度均匀性。此外,内置气体监测仪可以实时检测低量氧气和其他杂质,有助于确保晶圆质量的一致性。应用材料Centura MxP+反应堆的建造符合目前的SEMI操作和安全标准。它的内部传感器在正常操作期间检测工具中的任何故障,并向监视器发送警报。此外,先进的SEMI S2工厂自动化协议确保了对资产安全的持续监控,能够检测和防止任何意外的可燃气体爆炸。Centura MxP+反应堆除了易于操作和维护外,还采用先进技术进行精确的厚度控制。该模型的集成模块"过程自动化层"(PAL)根据给定参数自动调整过程流,以达到最优的过程均匀性。PAL能够将沉积速率和轮廓微调至1 nm分辨率。这样可以实现最大的表面平面度和产品质量,而不会影响吞吐量。总体而言,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP+是一种高性能PVD反应器,设计用于大批量生产和金属和复合膜的沉积。它提供了强大的控制和监控功能,精确的厚度控制,并且已经构建符合当前的安全标准。该设备还易于操作和维护,其先进的特点使其成为半导体和先进包装应用的理想选择。
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