二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP #9262650 待售

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ID: 9262650
优质的: 1999
Dry etcher (3) Chambers (Poly + Poly + Oxide) (2) Heat exchangers NESLAB 1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP Reactor是一种用于薄膜沉积的最先进的PECVD(等离子增强化学气相沉积)工具。它旨在为各种基材形状和尺寸提供卓越的覆盖均匀性。MxP反应器由真空室、电极组件和射频电源组成。真空室设计为防漏密封,允许在污染最小的情况下沉积高质量薄膜。该腔室具有耐高温(HTR)衬里,以防止内部受损。电极组件包括两个具有可调电压和电流设置的平面电极,允许微调处理参数。射频电源包括一个可调频率,从而实现高沉积速率.MxP反应器既灵活又可靠,非常适合各种高精度薄膜沉积任务。MxP反应堆能够沉积范围广泛的材料,包括但不限于硅、多晶硅、氮化硅和砷化氙。反应堆的热性能也很好,具有精确的温度控制能力,在各种形状和大小的基板上提供均匀的沉积速率。MxP反应堆还具有良好的等离子体蚀刻选择性,允许从基板上均匀去除不同的材料,而不会对整体结构造成任何损害。MxP Reator的等离子体蚀刻选择性由于其易于使用的腔室清洗设备和双通道气体升华系统而进一步增强。MxP反应堆的坚固设计也脱颖而出,内室由不锈钢构成,外壳由铝合金制成。这使得一个轻巧和坚固的单元,能够在最小的维护长期运行。MxP反应堆还设有一个方便的显示屏,可提供有关腔室温度、压力和工艺条件的清晰易读的信息。方便的监控单元使操作员能够实时跟踪整体性能,让他们有信心执行高精度的薄膜沉积任务。总而言之,AMAT Centura MxP反应器是一种可靠、用途广泛的PECVD机器,非常适合在各种底物上沉积薄膜。它具有出色的散热性能和等离子体蚀刻选择性,以及长期运行而不需要过度维护的坚固设计。方便的显示屏允许操作员实时监控整体性能,提供对沉积过程的全面控制。
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