二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP #9290475 待售
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP是一种先进的柔性区等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器，设计用于半导体器件的加工和生产。AMAT Centura MxP反应堆能够同时处理多达六个晶片，为薄膜和多层堆栈的生产提供了可靠、经济高效的平台。APPLIED MATERIALS Centura MxP具有先进的等离子体控制、精确的温度均匀性和即时的工艺优化功能,以确保卓越的薄膜均匀性和质量。反应堆能够产生多种材料，包括SiO2、Si3N4、SiN、Ta2O5、TaN和Al2O3。反应堆配有两个独立的等离子体源，使得具有复杂材料成分的薄膜能够形成多层堆栈和多重脱钩过程。Centura MxP使用多个几何形状来确保整个晶圆表面的精确温度均匀性。反应器的高长宽比可以在整个晶片表面上进行均匀的蚀刻和沉积。这样就可以对高纵横比特征（如沟槽和组合结构）进行均匀的蚀刻和沉积。该反应堆还具有先进的温度控制功能，具有可调气流，以及基于温度的自动校准序列，以实现精度和可重复性。它还配备了真空泄漏检测系统，以提高安全性和可靠性。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP为精确的薄膜沉积和蚀刻提供了最高的工艺可靠性、工艺性能和成本效益。它非常适合于MEMS的制造、先进的互连以及其他一些具有挑战性的微制造应用。反应堆的最先进的设计允许一个简短的学习曲线和快速纳入任何生产设施。
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