二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9293856 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP+等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）反应器是一种生产规模先进的沉积设备,旨在实现高速率、低温的薄膜沉积。该系统专为生产高性能光电元件和其他需要在低温下快速沉积的应用而设计。PECVD单元由一个反应堆室、一个独立的等离子体源和一系列控制过程配方的控制器组成。在腔室内部，等离子体是通过对一对陶瓷电极施加高频电源产生的，创造了高温高压的环境。然后用这种环境生成化学反应物，化学和热相互作用，在底物的暴露表面形成薄膜。AMAT Centura MxP+拥有先进的冷却机，允许对工艺室和基板进行快速冷却。利用冷却工具，可以维持和调整温度，以满足每一个沉积过程的具体要求。此外,资产还具有一系列控制器,用于控制沉积过程的各个方面,如工作压力、功率水平和薄膜温度。这些特性的结合使模型能够达到高达每分钟200海里的沉积速率。在工艺能力方面，APPLIED MATERIALS Centura MxP+可以在低至50°C的温度下沉积金属和金属氧化膜以及有机和介电材料。这样就可以生产高性能的光电元件，而无需高温，使得该设备非常适合应用，包括生产太阳能电池、OLED显示器和其他应用的超薄膜。Centura MxP+还具有一个集成的平面磁控管源,用于产生氮、氦和其他等离子体,用于需要高速度蚀刻、灰化和沉积过程的应用。此外，该系统还包括一个高级监测和数据收集股，向用户提供整个过程的详细情况以及最后的后处理结果。总体而言,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura MxP+是一台坚固、先进的PECVD机器,它为生产高性能光电元件、太阳能电池、OLED显示器和其他应用程序提供了独特的解决方桉。AMAT Centura MxP+具有一系列的工艺功能、先进的控制器和集成的磁控管源,可为用户提供基于等离子体的沉积工艺提供一个功能强大、经济高效的选项。