二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9351620 待售

ID: 9351620
晶圆大小: 8"
优质的: 1997
Poly etcher, 8" Wafer shape: SNNF (Notch) Type: Centura 1 P-2 No SMIF interface Chamber A, B, C and D: MxP+ Buff robot type: HP Loadlock: Wide body Metal buff robot blade Water detector: Alarm Wafer sensor: Standard Smoke detector: Alarm EMO AC Rack: Single phase Monitor and EDP monitor: Standalone Controller rack: Single phase Umbilical cables: Controller to mainframe: 25 ft Controller to AC rack: 25 ft RF to chamber coaxial: 50 ft Pump interface cable: 50 ft Chamber A: Chamber type: MxP+ ESC Type: Polymide IHC Type: MKS 640 Manometer type: 1 Torr Lid type: Clamp Slit valve O-ring: Viton Bias RF match: Standard OEM 12B RF Generator No autobias End point: Monochromator SEIKO SEIKI 301 Turbo pump Magnet driver Simply cathode Butterfly throttle valve VAT Gate valve Standard process kit Chamber B, C and D: Chamber type: MxP+ IHC Type: MKS640 Manometer type: 1 Torr Lid type: Clamp Slit valve O-ring: Viton Bias RF match: Standard OEM 12B RF Generator No autobias End point: Monochromator SEIKO SEIKI 301 Turbo pump Magnet driver Simply cathode Throttle valve: Butterfly VAT Gate valve Gases: Chamber A and B: Gas / Name / MFC Size / Make / Model Gas 1 / CL2 / 200 / STEC / SEC-4400MC Gas 2 / HBR / 200 / STEC / SEC-4400MC Gas 3 / N2 / 20 / STEC / SEC-4400MC Gas 4 / CF4 / 200 / STEC / SEC-4400MC Gas 5 / O2 / 10 / STEC / SEC-4400MC Gas 6 / O2 / 100 / STEC / SEC-4400MC Gas delivery: MFC Maker: STEC MKS Transducer display NIPPON SEISEN Mykrolis Filter Regulator: Veriflo MKS Transducer FUJIKIN Valve Gas connection: Multiline drop Chiller: Chiller valve connections: Manifold Generator rack valve connection: Manifold Chiller hose size: 3/8 Quick Valve connection: Wall: Chamber A, B and C Cathode: Chamber A, B and C Power supply: 208 V, 400 A, 60 Hz 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP+是一种高性能反应器,旨在方便晶体管、二极管、电阻等半导体器件在集成电路制造中的制造。该反应堆非常适合需要高温处理和精确控制气流、压力和温度的半导体制造工艺。该反应堆拥有一个获得专利的高效直接气体分配设备(HEDGDS),能够在整个腔室内实现均匀的气体分配和压力控制。该系统不需要手动气泵,可以精确控制气流和压力。HEDGDS不需要任何气体管线或外部连接,使得反应堆更容易安装和操作。反应堆内部温度可设置在25°C至1000°C之间,精度为0.1°C。这允许优化温度控制,以确保准确的流程结果和高效的工作流管理。此外,MxP+包括一个低压电脉冲单元,不需要手动真空泵。电脉冲机还能够保持恒定的腔室压力,以尽量减少通过过程应用过程中的气体突破。该反应堆还拥有先进的两相气流保护工具,可有效防止气流污染。该资产使用动态分流器,该分流器可最大程度地提高气流的均匀性,同时防止过程和载气的交叉污染。该模型还具有一个主动气体控制设备,该设备不断监测腔室压力并自动调整载气流量,以确保过程的可重复性。反应堆还配备了温度传感器和可编程逻辑控制器(PLC),能够进行精确的温度控制和自动化的过程监测。该PLC控制系统还能够执行一系列复杂事件,确保最佳的流程质量和效率。反应堆还提供各种附加功能,例如基于开关的电源和灵活的感应加热,从而进一步控制半导体的制造过程。再者,该反应堆也是ETL上市和RoHS认证的,确保其符合或超过半导体行业的安全标准。总体而言,AMAT Centura MxP+反应堆是一种先进的半导体制造解决方桉,旨在提供可靠和一致的结果,同时简化制造操作。
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