二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura P5000 #293651591 待售
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura P5000是一种低压、多反应堆、化学气相沉积（CVD）设备，用于生产高级器件结构的高级薄膜衬里材料，以及介电、钝化、粘附和屏障层。这种用途广泛的反应器为各种半导体工艺应用中的气相沉积和后涂层退火等关键工艺步骤提供了高通量和优异的均匀性。该系统由多个主加工室和最多四个附加的加工室组成，用于基板的预清洗、蚀刻和后处理功能。主工艺室有两个主要的工艺来源，通常是两个感光器持有者，可用于沉积单一和多层材料，如氮化硅、氧化硅、氧化铝、氧化全新、氮化铝、碳化硅和其他屏障材料。磁感器支架的设计允许对温度、压力、功率和沉积速率进行原位调节。这使得在微调应用参数时具有更大的灵活性，并提供了沉积材料的均匀性。初级加工室可以容纳源和基板之间长达30厘米的基板。具有闭环反馈的系统最先进的成像单元可提供实时成像,从而实现精确的层控制。AMAT Centura P5000反应器可用于栅极介电、钝化、接触屏障、粘附和介电薄膜沉积等多种半导体应用。该机还非常适合浅沟隔离、超浅结形成、高k沉积退火、形成硅化物接触、粘附和表面调节等后处理功能。APPLIED MATERIALS Centura P5000在半导体制造中提供了许多优势,包括高通量、改进的工艺控制和出色的均匀性。该工具还配备了高速负载锁、自动遥控和简单的流程配方等几个用户友好的功能，允许更大的控制和灵活性来满足客户需求。
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