二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PE CVD #9116532 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PE CVD（等离子体增强化学气相沉积）是一种功能齐全的单晶片反应器，设计用于在多晶硅、硅和其他基板上进行高质量的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）。PE CVD工艺基于两种或两种以上气体通过等离子体施加到基板上。源气体通常是硅烷（SiH4）用于多晶硅膜的生长，或乙硼烷（B2H6）用于氮化硅膜的生长。气体通过气体分布歧管输送到反应室中，形成薄膜的反应性物质由微波发生器驱动的两个或多个电极之间形成的等离子体产生。AMAT Centura PE CVD设备提供了广泛的工艺能力，包括能够在大面积上沉积高质量的薄膜，高通量，以及等离子体均匀分布在基板上。等离子体是通过电极组件产生的，该组件由两个介电环和位于晶圆周围的几个钨嵌件组成。等离子体通过自动狭缝环系统被引导到基板，确保均匀高效的气体输送。气体输送装置利用可变气体输送阀和预校准气体注入点等专利技术，保证高通量和低沉积非均匀性。微波发生器能够提供高达20 kW的射频功率，在底物上产生所需电子密度的等离子体，以确保膜的均匀生长。Centura还具有专门的过程监测和诊断功能,如原位诊断光谱,以确保最高质量的沉积。机器配有控制器单元，使用户能够实时监控和管理流程参数。APPLIED MATERIALS Centura PE CVD工具旨在提供卓越的工艺一致性和薄膜生长特性。它对沉积过程提供自动化的化学管理和精确的控制，如温度、时间、压力和气流。凭借其强大的设计,该资产能够长时间可靠地运行,并且可以轻松地重新配置以满足各种生产需求。