二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #293625549 待售

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor是一种高精度、高性能的物理气相沉积（PVD）设备。该反应器设计用于处理基板上的薄膜层，如半导体产品，以较高的沉积速率和较低的基板温度。该系统能够沉积多种材料，包括金属氮化物、金属氧化物和多晶硅。该单元采用热壁石英室，尺寸为10.2英寸，底压为100 Torr。反应器室还包括一根嵌入的细丝，用于金属薄膜的沉积。内置气体流动机设计用于均匀的气体分布和精确控制流速，并提供精确剂量的沉积气体。该反应堆由一个获得专利的热交换器工具提供动力，该工具利用三个热效率高的气流通道来维持精确的工艺温度，同时将功耗降至最低。APPLIED MATERIALS/AMAT Centura PVD Reactor还配备了用于精确端点检测的高分辨率数码相机资产和用于独立过程控制的变速控制器。该模型还附有一个过程中的诊断设备，提供反应堆状态的实时信息。内置无线接口允许与计算机等外部设备通信，从而能够在系统运行时收集和处理反应堆数据。此外，AMAT/APPLIED MATERIALS/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor提供多种安全功能，例如密码保护和用户认证，以确保安全运行。该装置还配备了一系列环境传感器，包括温度和压力传感器，用于监测和控制操作条件，以提高安全性。综上所述，AMAT/Centura PVD反应器是一种高度精确和可靠的PVD机器，能够在降低的温度下实现精确的薄膜沉积。反应堆具有许多功能，如嵌入式灯丝、高分辨率数码相机工具和实时诊断资产，可轻松、安全地提供完整的过程控制。