二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #293626643 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD
ID: 293626643
晶圆大小: 8"
Etcher, 8".
AMAT Centura™ PVD反应器是一种先进的物理气相沉积(PVD)工具,用于薄膜应用的沉积。它是制造先进技术电子元件最可靠、成本效益最高的方法之一。利用高密度电子束辐照,应用材料Centura™聚氯乙烯反应器能够以环保的方式将薄膜沉积到基板上。它是生产堆迭栅极晶体管、埋藏接触晶体管等复杂器件结构的理想选择。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura™ PVD反应器配备了一个高度可控的沉积室,能够在过程中精确控制基板温度。该设计还采用了非晶硅(a-Si)电子束源,以获得比传统电子束源更高的沉积速率。这种设计还可以更好地控制沉积速率,并最大限度地减少薄膜的不均匀性。另外,高能电子束使底物上的能量密度最小化,使其保持在最佳状态,以实现可靠的薄膜沉积。Centura™ PVD反应堆装有先进的原位涡轮分子真空泵,可以校准以达到最佳运行压力。此外,它还采用内置质量分析系统来测量沉积室内存在的颗粒,以确保所得薄膜的纯度。这样可以提高流程的一致性和可靠性。Centura™ PVD还可以通过其经济设计实现成本节约。该工艺可容纳从金属粉末和玻璃到金属箔的各种基材,从而降低了与初始材料相关的成本。此外,AMAT Centura™ PVD反应堆提高了生产产量,加快了沉积时间,从而节省了成本,提高了劳动效率,大大缩短了停机时间。应用材料Centura™聚氯乙烯反应器是薄膜沉积的可靠且经济高效的工具。其先进的特性和灵活的设计使其成为高级电子设备制造中一系列应用的理想选择。利用高密度电子束辐照,能够在利用最小能量的同时沉积可重复、可靠的薄膜。它还通过更快的沉积时间和更高的产量来节省成本,使其成为大规模生产的绝佳选择。
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