二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9239622 待售
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ID: 9239622
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
Sputtering system, 8"
Size: 8φ
GAMMA 2 TiN (ESC) Film formation chamber
Missing parts:
Electrostatic chucks: CH-A, CH-B
(2) Ion gauges
Seal cap
Spark generator
(2) Heater drive motors
Matcher
(2) Generators
Cool cover
SBC
Heater driver
Ion gauge ribber
3 KVP/S
Floppy disk drive (FDD)
D-I/O Board
A-I/O Board
(2) ISO/AMP Boards
Robot indexer cable 1P
CRT
NESLAB
3 KVP/S Controller
Etch hub: Rough piping between etch chambers
Etch pump: Power cable between etch chamber
Pico fuse 12 A.
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor是一种物理气相沉积（PVD）工具，设计用于将薄膜沉积在具有极好均匀性的基板上。它采用先进的多软管和多枪技术，将均匀的、薄薄的材料层沉积到基板上。该工具的高沉积速率使其适用于广泛的应用，包括半导体器件制造、微电子封装、医疗器件生产、光学涂层沉积。AMAT Centura PVD反应堆占地面积小，设计用于各种设置和配置。它是一种具有一系列过程控制功能的高吞吐量机器。应用材料Centura PVD反应堆的过程气体输送系统旨在确保最佳的气体流量和雾化分布，以实现最大的沉积均匀性。综合排气系统可有效地排出挥发物，并确保沉积环境的质量和清洁。反应堆还设有闭环温度控制系统，用于精确的温度管理。Centura PVD Reactor提供了优于其他PVD工具的沉积均匀性。该反应堆具有优良的材料装载和分散能力，可用于精细粒化、精密的各种来源材料（金、银、铝、钛、锌等），并且可以在任何理想的组合中沉积各种金属和合金。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor的设计目的是尽量减少颗粒撞击基板表面，确保一贯光滑和均匀的沉积层，即使在处理极薄的材料时也是如此。AMAT Centura PVD反应堆采用先进的自动化和控制技术来确保最佳的过程控制。它内置的腔室过程监测和控制功能允许在整个过程运行过程中进行精确控制。该工具还具有自动反应室设置菜单，便于快速调整配方设置，并节省时间和材料。SPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor是满足大容量、生产规模薄膜沉积需求的理想解决方桉。凭借其卓越的均匀性、精密的工艺控制和可靠的自动化，它可以用于制作精密薄膜，用于各种需要极薄和均匀层的应用。
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