二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9244056 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD（物理气相沉积）设备是一种超高真空室，设计用于使用溅射和/或蒸发进行沉积过程。该系统由两个不同的腔室组成，一个用于沉积过程的真空沉积室和一个装有负载锁定轴的排气室。真空室由反应室和源室两个主要成分组成。反作用室由不锈钢制成，安装有一个上门，可打开装卸。它还具有视口、压力表、通风口、隔离真空阀和真空泵连接。反应室内有一块石墨敏感板，它位于加热器单元的顶部。源腔室是一个较小的腔室，通常用于与附着的排气口一起蒸发。它还有一个压力表、通风口和隔离阀.该单元由单相交流电源模块供电，并由一系列不同的气体和液体供电。要沉积的物料来源是由一个还连接到机器上的crucible提供。在沉积开始之前，通过使用粗糙和高真空泵的步骤来阐述真空，以创造所需的真空条件。此后，加热器启动，用光学高温计监测温度，进行精确控制。为了发生沉积，将源材料和目标材料放入适当的腔室，将气体、液体或固体源材料加热直至蒸发。汽化材料随后进入反应室，凝结到目标材料上，这取决于所需的沉积速率。然后操作人员将监测材料，以确保沉积过程按照所需的参数进行。当达到所需的参数后，刀具就会通风，并在需要时打开车门卸载和重新装填腔室。然后将腔室重新打开到大气层，材料可以移走。AMAT Centura PVD资产是各种材料物理气相沉积的有效模型，具有精确和可重复的结果。它能够控制沉积速率和确保精确的涂层厚度，对于那些需要精密涂层质量的行业来说是非常宝贵的。