二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9244066 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor是一种高效率的等离子体薄膜沉积设备，设计用于高质量的多层薄膜涂层。AMAT Centura PVD Reactor生产具有优异屏障性能的高均匀、超薄膜涂层，非常适合电子器件的光学涂层、防护涂层等应用。反应堆采用多头直流放电等离子体源进行金属离子源引入，采用圆柱形等离子体室进行沉积。腔室设计成同心模式，正负电源分别位于底部和最上部。反应堆中使用的反应性气体有氢气、氙气、氙气、霓气和六氟化硫。反应堆利用了一种称为"溅射蒸发"的先进的基于等离子体的沉积技术，其中高能离子（典型的氙气或氙气）由高压电源通电。通电的离子随后被引导到沉积在位于反应堆底部的基板上的基板上。高能离子将沉积的物质排出，然后沿着等离子体室的壁溅射。到达基材后，材料发生化学反应，形成薄膜涂层。应用材料Centura PVD反应堆使用了多种技术来确保优异和可靠的结果。"浮动基板"技术即使在大面积上也能产生均匀的薄膜沉积速率。Centura利用创新的"线性直流电"源提供一致的等离子体密度。反应堆能够实现高度精确的温度控制和均匀的薄膜厚度，甚至跨越复杂的形状。该系统还具有一系列自动气体管理和预测健康监测能力，使设备能够安全高效地运行。最后，Centura PVD反应器是一种高精度薄膜沉积机，设计用于生产高度均匀的多层薄膜。AMAT/APPLICED MATERIALS Centura PVD反应堆除了具有出色的屏障性能和均匀的薄膜厚度外,还利用多种技术来确保可靠的结果和高质量的薄膜沉积。