二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9244068 待售

AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD（物理气相沉积）反应器是一种用于薄膜和涂层沉积的工业工具。设备由真空室、电子束枪、磁场发生器、气体分配系统以及加热和冷却元件组成。AMAT Centura PVD反应器在真空室中运行，以确保沉积过程的质量，这对于薄膜或涂层的制造至关重要。在真空室内部，一种电子束枪，又称光源，用于将电子引导到腔室中心的阴极上。这会使一种称为溅射气体的目标物质的原子或分子产生离子，使它们能够漂移穿过腔室并撞击基板或目标材料。为了保证溅射离子的正确准直，产生一个磁场，用来引导离子从溅射气体向底物方向移动。沉积的薄膜和涂层还需要精确的加热和冷却元件。在过程中，使用气体分配单元，以确保反应堆内多种不同气体的精确扩散。不同类型的薄膜和涂层都使用了各种气体，例如氙气、氧气和氮气。根据需要溅射的薄膜或涂层的性质，还可以使用额外的气体来达到具体的效果。例如，如果需要磨损程度较低的涂层，则使用更大数量的氙气来降低室内的氧气浓度，并有助于纯净均匀的溅射。总体而言,APPLIED MATERIALS/APPLED MATERIALS Centura PVD反应器是一种用途极为广泛的机器,可用于许多不同类型的薄膜和涂层应用。通过优化不同参数，如气体成分、基材温度、基材位置等，可以沉积多种材料，从而产生一系列所需的特性。该工具高效、可靠、经济高效,是各种薄膜和涂层应用的常用解决方桉。